大功率GaN基LED芯片的制备
| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-28页 |
| ·本课题的研究背景及意义 | 第10-11页 |
| ·课题的研究背景 | 第10页 |
| ·课题的研究意义 | 第10-11页 |
| ·大功率 LED 芯片的研究现状及存在的问题 | 第11-14页 |
| ·大功率 LED 芯片的研究现状 | 第11-13页 |
| ·大功率 LED 芯片存在的主要问题 | 第13-14页 |
| ·现有提高 LED 芯片光提取效率的方法 | 第14-27页 |
| ·本课题主要的研究内容 | 第27-28页 |
| 第二章 大功率 GaN 基 LED 芯片制备 | 第28-48页 |
| ·LED 芯片结构 | 第28-29页 |
| ·GaN 基 LED 外延片的制备 | 第29-31页 |
| ·GaN 基大功率 LED 芯片制备 | 第31-44页 |
| ·大功率 LED 芯片电极设计原理 | 第31-35页 |
| ·大功率 LED 芯片的制备流程 | 第35-41页 |
| ·芯片测试结果与分析 | 第41-44页 |
| ·高温热酸腐蚀对 LED 芯片性能的改善 | 第44-46页 |
| ·芯片激光切割中存在的问题 | 第44-45页 |
| ·高温热酸实验对芯片性能的影响 | 第45-46页 |
| ·本章小结 | 第46-48页 |
| 第三章 金属反射镜实验对芯片光提取效率的提升 | 第48-53页 |
| ·现有 DBR 结构存在的问题 | 第48-50页 |
| ·金属反射镜的设计与实现 | 第50-52页 |
| ·本章小结 | 第52-53页 |
| 第四章 Mesa 侧壁梯形状结构设计 | 第53-59页 |
| ·Mesa 侧壁梯形结构的建模与仿真 | 第53-56页 |
| ·ICP 刻蚀实现 Mesa 侧壁正梯形状结构 | 第56-58页 |
| ·本章小结 | 第58-59页 |
| 总结与展望 | 第59-61页 |
| 课题总结 | 第59-60页 |
| 课题展望 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-65页 |
| 攻读博士/硕士学位期间取得的研究成果 | 第65-66页 |
| 致谢 | 第66-67页 |
| 附录 | 第67页 |