电火花沉积/堆焊电源的研究
| 摘要 | 第1-3页 |
| ABSTRACT | 第3-7页 |
| 第1章 绪论 | 第7-13页 |
| ·课题研究背景 | 第7-10页 |
| ·电火花沉积技术概况 | 第7-8页 |
| ·电火花沉积技术实例 | 第8-10页 |
| ·国内外研究现状 | 第10-11页 |
| ·国外研究现状 | 第10页 |
| ·国内研究现状 | 第10-11页 |
| ·本课题研究的内容和意义 | 第11-13页 |
| 第2章 电源方案设计 | 第13-19页 |
| ·电火花放电机理 | 第13-15页 |
| ·电源方案设计 | 第15页 |
| ·电源要求及参数分析 | 第15-18页 |
| ·放电脉冲对沉积性能影响 | 第16-17页 |
| ·放电能量对沉积性能影响 | 第17页 |
| ·电压对沉积层性能影响 | 第17-18页 |
| ·电容对沉积性能影响 | 第18页 |
| ·电极材料对沉积性能影响 | 第18页 |
| ·本章小结 | 第18-19页 |
| 第3章 电源电路设计及调试 | 第19-44页 |
| ·主电路选择 | 第19-21页 |
| ·整流滤波电路 | 第21-27页 |
| ·充电电路 | 第22-25页 |
| ·放电电路 | 第25-27页 |
| ·运动电极 | 第27-28页 |
| ·NE555 控制电路 | 第28-33页 |
| ·NE555 电路设计 | 第29页 |
| ·NE555 电路仿真 | 第29-31页 |
| ·NE555 驱动测试 | 第31-33页 |
| ·单片机控制电路设计 | 第33-42页 |
| ·单片机抗干扰设计 | 第33-34页 |
| ·输入电路设计 | 第34页 |
| ·输出电路设计 | 第34-35页 |
| ·快速可控硅驱动电路设计 | 第35-37页 |
| ·液晶显示设计与调试 | 第37-39页 |
| ·控制软件设计 | 第39-42页 |
| ·驱动波形调试 | 第42页 |
| ·本章小结 | 第42-44页 |
| 第4章 工艺试验 | 第44-55页 |
| ·工艺试验方案 | 第44-45页 |
| ·工艺试验目的 | 第44页 |
| ·工艺试验方案 | 第44-45页 |
| ·工艺试验设备 | 第45页 |
| ·脉冲频率对工艺性能影响 | 第45-46页 |
| ·电容对工艺性能影响 | 第46-48页 |
| ·电极材料对工艺性能影响 | 第48-51页 |
| ·试验现象分析 | 第51-54页 |
| ·火花放电与电弧放电 | 第51-52页 |
| ·电源工作波形分析 | 第52-54页 |
| ·本章小结 | 第54-55页 |
| 第5章 结论 | 第55-57页 |
| ·结论 | 第55页 |
| ·展望 | 第55-57页 |
| 参考文献 | 第57-60页 |
| 附录 A 沉积电源实物图 | 第60-63页 |
| 致谢 | 第63-64页 |
| 攻读硕士学位期间的研究成果 | 第64页 |
