摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-10页 |
第1章 绪论 | 第10-16页 |
·课题背景 | 第10页 |
·新型光催化剂的设计与研究 | 第10-11页 |
·光催化剂的制备 | 第11-13页 |
·化学共沉淀法 | 第11-12页 |
·微乳液法 | 第12页 |
·水热法 | 第12-13页 |
·溶胶凝胶法 | 第13页 |
·低温燃烧合成法 | 第13页 |
·半导体材料的光催化机理 | 第13-14页 |
·氧化铝基纳米材料的应用 | 第14-15页 |
·作为载体在催化反应中的应用 | 第14-15页 |
·作为活性组分在光催化中的应用 | 第15页 |
·本课题的提出及拟研究内容 | 第15-16页 |
第2章 实验部分 | 第16-20页 |
·实验药品和仪器 | 第16-17页 |
·实验药品 | 第16页 |
·实验仪器和设备 | 第16-17页 |
·催化剂的表征 | 第17-19页 |
·透射电镜(TEM) | 第17页 |
·扫描电子显微镜(SEM) | 第17页 |
·X 射线衍射(XRD) | 第17页 |
·比表面积的测定(SSA) | 第17-18页 |
·紫外可见漫反射吸收光谱(DRS) | 第18页 |
·X 射线光电子能谱(XPS) | 第18页 |
·荧光光谱(PL) | 第18页 |
·合成催化剂生成羟基自由基浓度测定 | 第18-19页 |
·催化剂光催化活性测试 | 第19-20页 |
第3章 燃烧法合成含无定形态MgAl_2O_4及其活性研究 | 第20-36页 |
·引言 | 第20页 |
·催化剂的制备 | 第20-21页 |
·催化剂表征 | 第21-30页 |
·扫描电镜分析(SEM) | 第21-22页 |
·透射电镜分析(TEM) | 第22-23页 |
·X 射线衍射分析(XRD) | 第23-24页 |
·比表面积分析(SSA) | 第24-25页 |
·X 射线能谱分析(EDX)和热重分析(TG) | 第25-26页 |
·红外谱图分析(FT-IR) | 第26-27页 |
·X 射线光电子能谱分析(XPS) | 第27-28页 |
·紫外可见漫发射图谱分析(DRS) | 第28-29页 |
·荧光光谱分析(PL) | 第29-30页 |
·光催化活性实验 | 第30-34页 |
·不同催化剂在可见光下光催化降解 MB | 第30-32页 |
·光催化降解 MB 的机理 | 第32-33页 |
·催化剂的用量对降解率的影响 | 第33页 |
·MB 的初始浓度对降解率的影响 | 第33-34页 |
·光催化剂的稳定性 | 第34页 |
·本章小结 | 第34-36页 |
第4章 溶液燃烧法一步合成N-TiO_2/Al_2O_3复合材料及其活性研究 | 第36-52页 |
·引言 | 第36页 |
·催化剂的制备 | 第36-37页 |
·结果与讨论 | 第37-50页 |
·含有无定形组分 Al_2O_3的表征及光催化活性分析 | 第37-40页 |
·N-TiO_2/Al_2O_3的 XRD,BET 及孔径分析 | 第40-43页 |
·N-TiO_2/Al_2O_3的 XPS 分析 | 第43-45页 |
·N-TiO_2/Al_2O_3的 DRS 和 PL 分析 | 第45-46页 |
·N-TiO_2/Al_2O_3的 SEM 和 HRTEM 分析 | 第46-47页 |
·N-TiO_2/Al_2O_3的光催化活性分析 | 第47-49页 |
·N-TiO_2/Al_2O_3的光催化降解 MO 的机理 | 第49-50页 |
·本章小结 | 第50-52页 |
第5章 C_3N_4/Al_2O_3异质结材料的自组装合成及其活性研究 | 第52-58页 |
·引言 | 第52页 |
·催化剂制备 | 第52-53页 |
·催化剂表征 | 第53-55页 |
·扫描电镜分析(SEM) | 第53页 |
·透视电镜分析(TEM) | 第53-54页 |
·X 射线衍射分析(XRD) | 第54页 |
·红外谱图分析(FT-IR) | 第54-55页 |
·光催化活性实验 | 第55-57页 |
·不同催化剂在可见光下光催化降解 RhB | 第55-56页 |
·C_3N_4/Al_2O_3的光催化降解 RhB 的机理 | 第56-57页 |
·本章小结 | 第57-58页 |
结论 | 第58-60页 |
参考文献 | 第60-66页 |
攻读硕士学位期间所发表的论文 | 第66-68页 |
致谢 | 第68页 |