非制冷红外探测器用氧化钒薄膜的制备及性能研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-28页 |
| ·引言 | 第10页 |
| ·二氧化钒的结构及特性 | 第10-14页 |
| ·二氧化钒的晶体及能带结构 | 第10-13页 |
| ·二氧化钒的特性 | 第13-14页 |
| ·非制冷红外探测用二氧化钒薄膜研究现状 | 第14-26页 |
| ·二氧化钒薄膜制备方法 | 第14-19页 |
| ·二氧化钒薄膜研究内容 | 第19-23页 |
| ·二氧化钒薄膜的应用 | 第23-26页 |
| ·研究目的及意义 | 第26页 |
| ·研究内容及技术路线 | 第26-28页 |
| ·研究内容 | 第26-27页 |
| ·技术路线 | 第27-28页 |
| 第2章 实验 | 第28-33页 |
| ·实验药品及材料 | 第28页 |
| ·实验药品 | 第28页 |
| ·实验器皿与材料 | 第28页 |
| ·实验过程 | 第28-31页 |
| ·基片预处理 | 第29页 |
| ·氧化钒溶胶的制备 | 第29页 |
| ·旋涂 | 第29页 |
| ·真空热处理 | 第29-31页 |
| ·实验仪器及设备 | 第31-33页 |
| ·薄膜制备过程中所用仪器及设备 | 第31-32页 |
| ·薄膜测试所用仪器及设备 | 第32-33页 |
| 第3章 氧化钒薄膜的制备及性能 | 第33-42页 |
| ·氧化钒薄膜的制备 | 第33页 |
| ·真空热处理温度对薄膜电学性能影响 | 第33-35页 |
| ·真空热处理温度对薄膜物相影响 | 第35-36页 |
| ·真空热处理温度对薄膜形貌的影响 | 第36-37页 |
| ·真空热处理时间对薄膜电学性能的影响 | 第37-39页 |
| ·真空热处理时间对薄膜物相影响 | 第39-40页 |
| ·真空热处理时间对薄膜形貌的影响 | 第40-41页 |
| ·小结 | 第41-42页 |
| 第4章 掺 Mo 氧化钒薄膜的制备及性能 | 第42-55页 |
| ·引言 | 第42页 |
| ·掺 Mo 氧化钒薄膜的制备 | 第42-43页 |
| ·掺 Mo 量对薄膜电学性能的影响 | 第43-49页 |
| ·掺 Mo 量对薄膜物相的影响 | 第49-50页 |
| ·掺 Mo 量对薄膜形貌的影响 | 第50页 |
| ·真空热处理温度对掺 Mo 薄膜电学性能的影响 | 第50-52页 |
| ·真空热处理温度对掺 Mo 薄膜物相的影响 | 第52-53页 |
| ·真空热处理温度对掺 Mo 薄膜形貌的影响 | 第53-54页 |
| ·小结 | 第54-55页 |
| 第5章 掺 Nb 氧化钒薄膜的制备及性能 | 第55-69页 |
| ·掺 Nb 氧化钒薄膜的制备 | 第55页 |
| ·掺 Nb 量对薄膜电学性能影响 | 第55-61页 |
| ·掺 Nb 量对薄膜物相的影响 | 第61-62页 |
| ·掺 Nb 量对薄膜形貌的影响 | 第62-63页 |
| ·热处理温度对掺 Nb 薄膜电学性能影响 | 第63-65页 |
| ·热处理温度对掺 Nb 薄膜物相的影响 | 第65-66页 |
| ·热处理温度对掺 Nb 薄膜形貌的影响 | 第66-67页 |
| ·小结 | 第67-69页 |
| 第6章 讨论 | 第69-72页 |
| ·真空热处理温度和时间对薄膜性能的影响探讨 | 第69页 |
| ·掺杂对薄膜性能的影响探讨 | 第69-72页 |
| 结论 | 第72-73页 |
| 致谢 | 第73-74页 |
| 参考文献 | 第74-76页 |
| 攻读学位期间取得学术成果 | 第76页 |
