新型光纤的设计与制作工艺研究
致谢 | 第1-6页 |
摘要 | 第6-8页 |
Abstract | 第8-10页 |
目录 | 第10-11页 |
第1章 绪论 | 第11-51页 |
·引言 | 第11-12页 |
·光纤通信技术的回顾 | 第12-17页 |
·光纤通信的基本问题 | 第17-35页 |
·光纤损耗 | 第18-23页 |
·光纤色散 | 第23-26页 |
·光纤非线性折射率及相关效益 | 第26-30页 |
·光放大技术 | 第30-35页 |
·光纤通信的发展趋势 | 第35-39页 |
·光纤传输向超高速、大容量、长距离系统发展 | 第36-38页 |
·全光网(光接入与光交换) | 第38-39页 |
·研究课题 | 第39-46页 |
·传输光纤的改进设计与制造工艺 | 第39-42页 |
·超宽带新型放大光纤的研究 | 第42-46页 |
·课题来源与设计 | 第46-47页 |
·论文主要成果 | 第47-51页 |
第2章 新型非零色散位移光纤的设计 | 第51-71页 |
·引言 | 第51-52页 |
·光纤波导理论与求解 | 第52-55页 |
·圆柱坐标系中的波导场方程 | 第52-54页 |
·光纤波导场方程求解 | 第54-55页 |
·光纤设计、改进与性能优化 | 第55-61页 |
·新型非零色散位移光纤的设计 | 第61-63页 |
·结果分析与讨论 | 第63-69页 |
·改进的 NZDSF | 第64页 |
·负色散大有效面积NZDSF | 第64-65页 |
·G.655D + G.656 光纤 | 第65页 |
·G.655E + G.656光纤 | 第65-69页 |
·本章小结 | 第69-71页 |
第3章 新型非零色散位移光纤制备工艺研宄 | 第71-95页 |
·引言 | 第71页 |
·光纤制造技术的发展趋势 | 第71-73页 |
·新型非零色散位移光纤制备工艺 | 第73-86页 |
·光纤全性能的评价 | 第86-93页 |
·本章小结 | 第93-95页 |
第4章 超宽带近红外发光掺秘石英光纤研制 | 第95-113页 |
·引言 | 第95-96页 |
·MCVD+溶液掺杂工艺 | 第96-97页 |
·掺秘石英光纤的制备 | 第97-100页 |
·掺秘石英预制棒和光纤的性能测试 | 第100页 |
·结果分析与讨论 | 第100-112页 |
·本章小结 | 第112-113页 |
第5章 超宽带铒秘共掺石英预制棒的制备 | 第113-119页 |
·引言 | 第113页 |
·饵秘共掺石英预制棒制备实验 | 第113-114页 |
·饵秘共掺石英预制棒的吸收光谱 | 第114页 |
·饵秘共掺石英预制棒的发射光谱 | 第114-117页 |
·本章小结 | 第117-119页 |
第6章 总结 | 第119-121页 |
参考文献 | 第121-129页 |
个人简历和学术论文成果 | 第129-131页 |
个人简历 | 第129-130页 |
攻读博士学位期间主要的研究成果 | 第130-131页 |