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一种基于深亚微米刻蚀槽的Slot-DBR半导体激光器的设计和制作

致谢第1-5页
摘要第5-6页
Abstract第6-7页
目录第7-9页
1. 绪论第9-17页
   ·半导体激光器的发展背景和现状第9页
   ·可调谐半导体激光器的发展历程和性能比较第9-13页
   ·可调谐DBR半导体激光器的改进第13-15页
   ·本论文的创新点和章节安排第15-17页
2. 相关理论第17-24页
   ·DBR可调谐半导体激光器的工作原理第17-19页
   ·深亚微米刻蚀槽的特征参数计算第19-21页
   ·深亚微米刻蚀槽半导体可调谐激光器结构说明第21-23页
   ·本章小结第23-24页
3. 深亚微米刻蚀槽的制作第24-31页
   ·传统光刻工艺及干法刻蚀的介绍第24-26页
   ·深亚微米刻蚀槽的制作工艺流程第26-28页
   ·深亚微米刻蚀槽制作工艺调试过程记录第28-30页
   ·本章小结第30-31页
4. 基于深亚微米刻蚀槽的Slot-DBR激光器的制作第31-36页
   ·深亚微米刻蚀槽成品参数测量结果说明第31页
   ·基于深亚微米刻蚀槽成品参数的激光器结构仿真优化第31-33页
   ·基于深亚微米刻蚀槽的激光器制作工艺及成品第33-35页
   ·本章小结第35-36页
5. 基于深亚微米刻蚀槽的Slot-DBR激光器的测试第36-45页
   ·多电极可调谐激光器的测试系统搭建第36-38页
   ·多电极可调谐激光器控制器的工作原理及制作第38-41页
   ·基于深亚微米刻蚀槽的激光器的测试结果第41-44页
   ·本章小结第44-45页
6. 总结与展望第45-47页
   ·本文的核心内容及创新第45-46页
   ·本文展望第46-47页
参考文献第47-50页
附录第50页
 作者简历第50页
 成果附录第50页

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