致谢 | 第1-5页 |
摘要 | 第5-6页 |
Abstract | 第6-7页 |
目录 | 第7-9页 |
1. 绪论 | 第9-17页 |
·半导体激光器的发展背景和现状 | 第9页 |
·可调谐半导体激光器的发展历程和性能比较 | 第9-13页 |
·可调谐DBR半导体激光器的改进 | 第13-15页 |
·本论文的创新点和章节安排 | 第15-17页 |
2. 相关理论 | 第17-24页 |
·DBR可调谐半导体激光器的工作原理 | 第17-19页 |
·深亚微米刻蚀槽的特征参数计算 | 第19-21页 |
·深亚微米刻蚀槽半导体可调谐激光器结构说明 | 第21-23页 |
·本章小结 | 第23-24页 |
3. 深亚微米刻蚀槽的制作 | 第24-31页 |
·传统光刻工艺及干法刻蚀的介绍 | 第24-26页 |
·深亚微米刻蚀槽的制作工艺流程 | 第26-28页 |
·深亚微米刻蚀槽制作工艺调试过程记录 | 第28-30页 |
·本章小结 | 第30-31页 |
4. 基于深亚微米刻蚀槽的Slot-DBR激光器的制作 | 第31-36页 |
·深亚微米刻蚀槽成品参数测量结果说明 | 第31页 |
·基于深亚微米刻蚀槽成品参数的激光器结构仿真优化 | 第31-33页 |
·基于深亚微米刻蚀槽的激光器制作工艺及成品 | 第33-35页 |
·本章小结 | 第35-36页 |
5. 基于深亚微米刻蚀槽的Slot-DBR激光器的测试 | 第36-45页 |
·多电极可调谐激光器的测试系统搭建 | 第36-38页 |
·多电极可调谐激光器控制器的工作原理及制作 | 第38-41页 |
·基于深亚微米刻蚀槽的激光器的测试结果 | 第41-44页 |
·本章小结 | 第44-45页 |
6. 总结与展望 | 第45-47页 |
·本文的核心内容及创新 | 第45-46页 |
·本文展望 | 第46-47页 |
参考文献 | 第47-50页 |
附录 | 第50页 |
作者简历 | 第50页 |
成果附录 | 第50页 |