| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-9页 |
| 目录 | 第9-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-40页 |
| ·引言 | 第12页 |
| ·智能节能领域纳米材料 | 第12-15页 |
| ·新型超薄二维纳米结构的合成与构建研究进展 | 第15-26页 |
| ·物理实验方法合成 | 第17-18页 |
| ·微机械剥离法 | 第17页 |
| ·离子刻蚀法 | 第17-18页 |
| ·高效的溶液法合成 | 第18-26页 |
| ·液相剥离法 | 第18-20页 |
| ·插层—去插层法 | 第20-23页 |
| ·化学直接合成法 | 第23-24页 |
| ·取向连接方法 | 第24-26页 |
| ·二氧化钒的特性和应用 | 第26-33页 |
| ·二氧化钒的结构特征 | 第28-30页 |
| ·二氧化钒的机敏特性 | 第30-31页 |
| ·二氧化钒机敏特性的的应用 | 第31-33页 |
| ·本论文的选题背景和研究内容 | 第33-35页 |
| 参考文献 | 第35-40页 |
| 第二章 新物相的二氧化钒微/纳米结构：相变和磁学性质的研究 | 第40-64页 |
| ·合成背景和合成思路的提出 | 第40-41页 |
| ·实验部分 | 第41-43页 |
| ·实验试剂和材料 | 第41-42页 |
| ·样品制备 | 第42页 |
| ·从新物相VO_2到VO_2(M/R)的相转变 | 第42页 |
| ·样品表征 | 第42-43页 |
| ·理论计算 | 第43页 |
| ·实验结果分析与讨论 | 第43-54页 |
| ·新物相二氧化钒结构分析 | 第43-49页 |
| ·从新物相二氧化钒到M/R相二氧化钒相转变过程 | 第49-52页 |
| ·电学与磁学性质 | 第52-54页 |
| ·新物相二氧化钒第一性原理计算研究 | 第54-59页 |
| ·结构特征和电子性质 | 第54-57页 |
| ·新物相二氧化钒到R相二氧化钒相转变机理 | 第57-59页 |
| ·本章小结 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-64页 |
| 第三章 室温下插层—去插层法制备原子尺度厚度单层B相二氧化钒 | 第64-76页 |
| ·合成背景和合成思路的提出 | 第64-66页 |
| ·实验部分 | 第66-67页 |
| ·实验试剂和材料 | 第66页 |
| ·前驱物的制备 | 第66页 |
| ·样品制备 | 第66-67页 |
| ·样品表征 | 第67页 |
| ·理论计算 | 第67页 |
| ·结果与讨论 | 第67-73页 |
| ·结构与形貌分析 | 第67-69页 |
| ·形成机理的研究 | 第69-71页 |
| ·X射线吸收精细结构谱研究 | 第71-72页 |
| ·第一性原理的计算 | 第72-73页 |
| ·本章小结 | 第73-74页 |
| 参考文献 | 第74-76页 |
| 第四章 M相VO_2超薄纳米片的首次合成及其金属.绝缘体性能的研究 | 第76-90页 |
| ·引言 | 第76-77页 |
| ·实验部分 | 第77-79页 |
| ·实验试剂和材料 | 第77-78页 |
| ·前驱物的制备 | 第78页 |
| ·纳米片的合成 | 第78-79页 |
| ·样品表征 | 第79页 |
| ·结果与讨论 | 第79-88页 |
| ·结构与形貌分析 | 第79-81页 |
| ·形成机理的研究 | 第81-85页 |
| ·纳米片机敏特性的研究 | 第85-88页 |
| ·本章小结 | 第88-89页 |
| 参考文献 | 第89-90页 |
| 攻读博士期间发表的学术论文与取得的研究成果 | 第90-91页 |
| 致谢 | 第91-92页 |
