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(Pb,La)(Zr,Ti)O3铁电阵列的制备及其性能研究

摘要第1-4页
Abstract第4-5页
目录第5-7页
1. 文献综述第7-19页
   ·PLZT铁电薄膜研究概述第7-10页
     ·PLZT简介第7-8页
     ·研究现状第8-10页
   ·铁电薄膜阵列研究第10-14页
     ·制备技术第10-11页
     ·研究现状第11-12页
     ·阵列应用第12-14页
   ·尺寸效应第14-16页
     ·厚度尺寸第14-15页
     ·格点尺寸第15-16页
   ·单元性能测试第16-17页
   ·研究目的与主要内容第17-19页
2. 实验方案设计第19-27页
   ·实验方案设计第19-20页
   ·实验设备第20-24页
     ·薄膜及阵列制备设备第20-21页
     ·薄膜分析设备第21-22页
     ·形貌分析设备第22-23页
     ·性能分析设备第23-24页
   ·试剂选择第24-27页
3. PLZT铁电薄膜制备及性能研究第27-35页
   ·前言第27页
   ·薄膜制备第27-30页
     ·溶胶配制第27-29页
     ·铁电薄膜制备第29-30页
   ·薄膜结构及性能研究第30-34页
     ·晶体结构第30-31页
     ·铁电性能第31-34页
   ·小结第34-35页
4. PLZT感光薄膜及阵列的制备第35-49页
   ·前言第35页
   ·凝胶膜感光性分析第35-38页
     ·紫外—可见光光谱分析第35-37页
     ·红外光谱分析第37-38页
   ·PLZT铁电阵列制备第38-43页
     ·紫外掩模法第38-40页
     ·激光干涉法第40-43页
   ·格点性能测试及分析第43-46页
   ·小结第46-49页
5. 模板组装法制备 PLZT铁电阵列第49-55页
   ·前言第49页
   ·PLZT铁电阵列制备第49-52页
   ·格点性能测试及分析第52-53页
   ·小结第53-55页
6. 结论第55-56页
致谢第56-57页
参考文献第57-63页
作者在硕士期间撰写和发表的论文第63页

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