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几种半导体金属氧化物的发射光谱研究

摘要第1-6页
Abstract第6-10页
第1章 引言第10-18页
   ·半导体材料的光致电子跃迁过程第10-12页
     ·带-带跃迁第10页
     ·本征带与杂质能级之间的跃迁第10-11页
     ·施主与受主之间的跃迁第11页
     ·激子吸收第11页
     ·由表面态引起的跃迁第11页
     ·小结第11-12页
   ·几种半导体金属氧化物的性质、现状及其制备方法第12-15页
     ·二氧化铈的基本性质及现状第12页
     ·氧化锌的基本性质及现状第12页
     ·二氧化钛的基本性质及现状第12-13页
     ·二氧化锡的基本性质及现状第13页
     ·纳米级粉体的制备方法第13-15页
   ·本课题的研究背景、研究目的、研究内容和研究方法第15-18页
     ·本课题的研究背景和立项依据第15-16页
     ·研究内容第16页
     ·研究方法第16-18页
第2章 样品的制备和表征第18-34页
   ·主要化学药品第18页
   ·仪器及设备第18-19页
   ·各样品的制备及命名第19-34页
     ·热沉淀法制备纳米 CeO_2及产物表征第19-22页
     ·溶胶-聚沉法制备纳米 CeO_2及产物表征第22-24页
     ·直接沉淀法制备纳米 CeO_2及产物表征第24-26页
     ·固相化学反应-水热法合成 CeO_2及产物表征第26-28页
     ·固相化学反应-水热法合成 ZnO 及产物表征第28-30页
     ·固相化学反应-水热法合成 SnO_2及产物表征第30-32页
     ·溶胶-水热法制备纳米 TiO_2及产物表征第32-34页
第3章 样品的发射光谱测试及分析第34-43页
   ·发射光谱与激发波长关系研究第34-36页
   ·半导体氧化物的发射光谱特征与微粒粒度关系研究第36-42页
   ·本章小结第42-43页
第4章 DC-CeO_2的发射光谱的高斯拟合及数据分析第43-50页
   ·DC-CeO_2-4 的发射光谱高斯拟合第43-44页
   ·DC-CeO_2-4 的紫外-可见(UV-Vi)测试及带隙值计算第44-47页
   ·不同温度煅烧的 DC-CeO_2发射谱的 Sindir/Sdir及 SVi/SUV分析第47-50页
第5章 几种半导体氧化物的发射谱的 Sindir/Sdir和 SVi/SUV计算与分析第50-55页
   ·几种半导体氧化物的 Egdir和 Egindir计算第50-52页
   ·几种半导体金属氧化物的发射谱的 Sindir/Sdir及 SVi/SUV分析第52-55页
第6章 多峰发射光谱拟合在光催化机理研究中的应用第55-58页
结论第58-60页
致谢第60-61页
参考文献第61-65页
攻读学位期间取得学术成果第65-66页
附件第66-67页
授予硕士学位人员登记表第67页

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