| 摘要 | 第1-3页 |
| ABSTRACT | 第3-5页 |
| 目录 | 第5-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-21页 |
| §1.1 课题背景 | 第9-10页 |
| §1.2 捷连惯导系统 | 第10-18页 |
| §1.2.1 导航、惯性导航的概念和惯性技术的发展 | 第10-13页 |
| §1.2.2 捷联式惯性导航系统的特点 | 第13-15页 |
| §1.2.3 光电惯性技术及发展 | 第15-18页 |
| §1.3 微光学与微系统技术的发展 | 第18-19页 |
| §1.4 本课题研究内容 | 第19-20页 |
| 参考文献 | 第20-21页 |
| 第二章 微光学陀螺仪理论基础和波导环设计方案 | 第21-37页 |
| §2.1 微光学陀螺仪理论基础 | 第21-28页 |
| §2.1.1 Sagnac效应 | 第22-25页 |
| §2.1.2 互易性原理 | 第25-28页 |
| §2.2 微光学陀螺仪原理 | 第28-31页 |
| §2.2.1 干涉型微光学陀螺仪原理 | 第29-30页 |
| §2.2.2 谐振型微光学陀螺仪原理 | 第30-31页 |
| §2.3 波导螺线环设计方案 | 第31-36页 |
| §2.3.1 纳米光纤掩埋方案 | 第32-34页 |
| §2.3.2 有机聚合物方案 | 第34-35页 |
| §2.3.3 波导有源增益方案 | 第35页 |
| §2.3.4 火焰水解预制棒方案 | 第35-36页 |
| 参考文献 | 第36-37页 |
| 第三章 低损耗波导的设计 | 第37-70页 |
| §3.1 光波导理论 | 第37-51页 |
| §3.1.1 平面光波导理论 | 第37-42页 |
| §3.1.2 平面矩形光波导理论 | 第42-44页 |
| §3.1.3 单模矩形介质波导的设计 | 第44-49页 |
| §3.1.4 光波导传输损耗 | 第49-51页 |
| §3.2 平面弯曲光波导损耗及其改善 | 第51-60页 |
| §3.2.1 波导弯曲损耗 | 第51-55页 |
| §3.2.2 弯曲波导损耗改善措施 | 第55-60页 |
| §3.2.2.1 微位移对弯曲损耗的改善 | 第56-57页 |
| §3.2.2.2 刻槽法对弯曲损耗的改善 | 第57-59页 |
| §3.2.2.3 波导透镜及其对弯曲损耗的改善 | 第59-60页 |
| §3.3 光波导材料选择及其波导制作 | 第60-67页 |
| §3.3.1 主要光波导材料的特性比较 | 第60-64页 |
| §3.3.2 光纤预制棒技术 | 第64-67页 |
| §3.3.2.1 光纤预制棒制作技术 | 第64-65页 |
| §3.3.2.2 用光纤预制棒制作技术制作波导 | 第65-66页 |
| §3.3.2.3 用光纤预制棒制作波导 | 第66-67页 |
| 参考文献 | 第67-70页 |
| 第四章 光波导光刻技术与工艺 | 第70-121页 |
| §4.1 引言 | 第70-71页 |
| §4.2 光刻胶 | 第71-85页 |
| §4.2.1 光刻胶的特性 | 第72-77页 |
| §4.2.2 光刻胶感光机理 | 第77-80页 |
| §4.2.3 光刻胶的曝光方式 | 第80-83页 |
| §4.2.4 光刻用的光源 | 第83-85页 |
| §4.3 光刻掩模板制作 | 第85-92页 |
| §4.3.1 掩模设计 | 第85-89页 |
| §4.3.2 掩模制备 | 第89-92页 |
| §4.4 光刻工艺步骤及其相关缺陷 | 第92-112页 |
| §4.4.1 基片处理 | 第95-96页 |
| §4.4.2 旋转涂胶 | 第96-102页 |
| §4.4.3 前烘 | 第102-104页 |
| §4.4.4 对准曝光 | 第104-107页 |
| §4.4.5 曝光后烘 | 第107-108页 |
| §4.4.6 显影定影 | 第108-110页 |
| §4.4.7 坚膜烘焙 | 第110-111页 |
| §4.4.8 图形检查 | 第111-112页 |
| §4.5 光刻对面形的影响及其缺陷改善措施 | 第112-119页 |
| §4.5.1 实验技术条件和结果 | 第112-114页 |
| §4.5.2 实验改善措施 | 第114-119页 |
| 参考文献 | 第119-121页 |
| 第五章 光波导蚀刻技术与工艺 | 第121-166页 |
| §5.1 引言 | 第121-125页 |
| §5.1.1 蚀刻要求与工艺 | 第121-122页 |
| §5.1.2 反应离子束刻蚀技术 | 第122-125页 |
| §5.2 离子束蚀刻(IBE)工艺 | 第125-140页 |
| §5.2.1 离子溅射效应 | 第125-127页 |
| §5.2.2 反应离子束刻蚀工艺 | 第127页 |
| §5.2.3 反应离子束蚀刻速率及其参数控制 | 第127-136页 |
| §5.2.4 离子束蚀刻蚀二氧化硅石英材料和硅材料 | 第136-140页 |
| §5.3 反应离子束刻蚀实验和测试结果 | 第140-150页 |
| §5.3.1 实验技术条件和刻蚀设备 | 第141-143页 |
| §5.3.2 反应离子束刻蚀实验 | 第143-150页 |
| §5.4 反应离子束刻蚀(RIE)的草地现象 | 第150-165页 |
| §5.4.1 蚀刻工艺中形成草地现象的因素 | 第151-156页 |
| §5.4.2 蚀刻草地现象的改善措施改善措施 | 第156-165页 |
| 参考文献 | 第165-166页 |
| 第六章 光波导耦合技术与陀螺系统设计探讨 | 第166-185页 |
| §6.1 引言 | 第166页 |
| §6.2 光波导耦合 | 第166-173页 |
| §6.2.1 波导端面的场分布 | 第167-168页 |
| §6.2.2 光波导耦合损耗和处理方法 | 第168-171页 |
| §6.2.3 光波导耦合结构设计 | 第171-173页 |
| §6.3 光波导耦合方案 | 第173-181页 |
| §6.3.1 棱镜耦合 | 第173-175页 |
| §6.3.2 光栅耦合 | 第175-178页 |
| §6.3.3 45°角反射耦合 | 第178-181页 |
| §6.3.3.1 45°角反射耦合的设计 | 第179页 |
| §6.3.3.2 45°角耦合方案极其制备 | 第179-181页 |
| §6.4 微光陀螺仪系统设计探讨 | 第181-184页 |
| 参考文献 | 第184-185页 |
| 第七章 总结与展望 | 第185-189页 |
| §7.1 总结 | 第185-186页 |
| §7.2 展望 | 第186-188页 |
| 参考文献: | 第188-189页 |
| 硕士期间发表论文 | 第189-190页 |
| 致谢 | 第190页 |