| 中文摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-11页 |
| 第1章 前言 | 第11-32页 |
| ·引言 | 第11-12页 |
| ·半导体氧化物气体传感器 | 第12-15页 |
| ·半导体气体传感器发展历史 | 第12-13页 |
| ·半导体气体传感器种类 | 第13-15页 |
| ·半导体气体传感器敏感机理 | 第15-19页 |
| ·O_2在半导体氧化物表面的吸附行为 | 第16-17页 |
| ·稳态和瞬态气敏机理 | 第17-19页 |
| ·光激发气体传感器发展历史及研究现状 | 第19-30页 |
| ·光激发气体传感器的发展历史 | 第19-24页 |
| ·增强光激发气敏器件性能的途径 | 第24-30页 |
| ·本文研究意义和研究内容 | 第30-32页 |
| 第2章 ZnO-SnO_2复合材料制备及气敏特性研究 | 第32-41页 |
| ·ZnO 及 ZnO-SnO_2复合材料简介 | 第32-33页 |
| ·复合材料制备与敏感器件制作 | 第33-35页 |
| ·实验试剂 | 第33-34页 |
| ·材料制备 | 第34页 |
| ·器件制作 | 第34-35页 |
| ·测试结果分析与讨论 | 第35-40页 |
| ·材料表征及分析 | 第35-36页 |
| ·气体传感器的光增感特性 | 第36-40页 |
| ·结论 | 第40-41页 |
| 第3章 基于 SnO_2-In2O_3中空结构的臭氧传感器 | 第41-57页 |
| ·In2O_3及 SnO_2-In2O_3复合材料简介 | 第41-43页 |
| ·敏感器件制作 | 第43-45页 |
| ·实验试剂 | 第43页 |
| ·材料制备 | 第43-45页 |
| ·器件制作及测试系统 | 第45页 |
| ·测试结果分析与讨论 | 第45-56页 |
| ·材料表征及分析 | 第45-50页 |
| ·臭氧气敏特性 | 第50-53页 |
| ·气敏机理分析 | 第53-56页 |
| ·结论 | 第56-57页 |
| 第4章 基于 SnO-TiO_2中空结构的紫外光增强型乙醇传感器 | 第57-70页 |
| ·TiO_2及 SnO_2-TiO_2复合材料简介 | 第57-59页 |
| ·敏感器件制作 | 第59-62页 |
| ·材料制备 | 第60-61页 |
| ·器件制作及测试系统 | 第61-62页 |
| ·测试结果分析与讨论 | 第62-69页 |
| ·材料表征与分析 | 第62-64页 |
| ·紫外增强敏感特性 | 第64-66页 |
| ·气敏机理分析 | 第66-69页 |
| ·结论 | 第69-70页 |
| 第5章 SnO_2纳米线阵列的超声喷雾法制备及气敏特性研究 | 第70-86页 |
| ·超声喷雾系统 | 第72-73页 |
| ·材料表征设备 | 第73页 |
| ·气敏性能测试装置 | 第73页 |
| ·材料表征结果与分析 | 第73-80页 |
| ·SnO_2纳米线 XRD 表征 | 第73-74页 |
| ·形貌表征 | 第74-76页 |
| ·形貌随时间演化过程 | 第76-77页 |
| ·差热失重分析 | 第77-80页 |
| ·生长机理 | 第80-82页 |
| ·气敏特性 | 第82-84页 |
| ·气敏机理 | 第84-85页 |
| ·结论 | 第85-86页 |
| 第6章 具有背反射层的光增强型气体传感器 | 第86-103页 |
| ·器件结构的简介 | 第86-88页 |
| ·器件制作 | 第88-89页 |
| ·敏感材料及衬底的选择 | 第88页 |
| ·器件制作工艺 | 第88-89页 |
| ·敏感层形貌表征及性能 | 第89-96页 |
| ·器件结构及气敏机理分析 | 第96-97页 |
| ·湿度对室温气体传感器的影响 | 第97-102页 |
| ·结论 | 第102-103页 |
| 第7章 结论与展望 | 第103-105页 |
| 参考文献 | 第105-128页 |
| 致谢 | 第128-129页 |
| 作者简历 | 第129页 |