摘要 | 第1-6页 |
Abstract | 第6-8页 |
目录 | 第8-10页 |
第一章 绪论 | 第10-23页 |
·概述 | 第10-11页 |
·激光干涉法等离子体诊断简介 | 第11-17页 |
·干涉法等离子体诊断光路 | 第11-13页 |
·国外等离子体诊断研究现状 | 第13-14页 |
·国内等离子体诊断研究现状 | 第14-15页 |
·X射线分束器 | 第15-17页 |
·选题意义和博士论文的构成 | 第17-19页 |
参考文献 | 第19-23页 |
第二章 13.9nm全息光栅分束器设计 | 第23-42页 |
·引言 | 第23-25页 |
·13.9nm全息光栅分束器中调整光栅设计 | 第25-32页 |
·调整光栅的制作方案 | 第25-29页 |
·全息光栅分束器制作误差对干涉系统预调整精度的影响 | 第29-32页 |
·X射线分束光栅设计 | 第32-39页 |
·分合束光栅的线密度 | 第32-33页 |
·分合束光栅的槽型结构 | 第33-39页 |
·工作光栅制作误差对干涉系统分束效率的影响 | 第39页 |
·本章小结 | 第39-41页 |
参考文献 | 第41-42页 |
第三章 13.9nm全息光栅分束器制作研究 | 第42-71页 |
·引言 | 第42-43页 |
·13.9nm全息光栅分束器制作工艺 | 第43-47页 |
·双频光栅的制作光路 | 第44页 |
·双频光栅的制作原理 | 第44-47页 |
·双频调整光栅制作 | 第47-52页 |
·双频调整光栅的线密度关系控制 | 第48-50页 |
·双频调整光栅与Laminar工作光栅的线条平行度控制 | 第50-52页 |
·Laminar工作光栅制作过程中的问题及解决方法 | 第52-61页 |
·Laminar工作光栅线密度控制 | 第52-54页 |
·曝光过程中的驻波效应控制 | 第54-55页 |
·反应离子束灰化 | 第55-57页 |
·离子束刻蚀及去胶 | 第57-61页 |
·13.9nm闪耀分合束光栅初探 | 第61-66页 |
·闪耀光栅制作工艺 | 第61-62页 |
·实验结果及讨论 | 第62-66页 |
·本章小结 | 第66-68页 |
参考文献 | 第68-71页 |
第四章 13.9nm全息光栅分束器性能评价 | 第71-99页 |
·引言 | 第71页 |
·双频调整光栅参数检测 | 第71-77页 |
·双频光栅的线密度测量 | 第72页 |
·双频调整光栅与Laminar工作光栅线条的平行度测量 | 第72-77页 |
·双频调整光栅线条平行度测量结果 | 第77页 |
·Laminar工作光栅参数检测 | 第77-84页 |
·Laminar工作光栅线密度测量 | 第78页 |
·Laminar工作光栅槽型参数测量 | 第78-84页 |
·Laminar工作光栅衍射效率检测 | 第84-95页 |
·检测结果及干涉系统分析 | 第95-96页 |
·分合束光栅检测结果 | 第95页 |
·干涉系统预调整精度及分束效率 | 第95-96页 |
·本章小结 | 第96-98页 |
参考文献 | 第98-99页 |
第五章 工作总结与展望 | 第99-101页 |
·论文的创新性工作 | 第99-100页 |
·下一步工作的展望 | 第100-101页 |
致谢 | 第101-103页 |
攻读博士期间发表的论文 | 第103页 |