| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 1 绪论 | 第9-18页 |
| ·论文选题背景及其研究意义 | 第9-10页 |
| ·国内外主要切削温度测试技术介绍 | 第10-14页 |
| ·自然热电偶法 | 第10页 |
| ·人工热电偶法 | 第10-11页 |
| ·远红外辐射测温法 | 第11-12页 |
| ·薄膜热电偶法 | 第12-14页 |
| ·溅射薄膜沉积技术简介 | 第14-17页 |
| ·直流磁控溅射法 | 第14页 |
| ·射频溅射法 | 第14-15页 |
| ·空阴极放电离子镀 | 第15页 |
| ·多弧离子镀 | 第15-16页 |
| ·微波ECR等离子体源增强溅射 | 第16-17页 |
| ·本文研究的主要内容及组织结构 | 第17-18页 |
| 2 嵌入式薄膜热电偶传感器的研制 | 第18-41页 |
| ·YG6X测温刀头结构设计与制作 | 第19-20页 |
| ·SiO_2绝缘膜的溅射沉积 | 第20-30页 |
| ·双放电腔MW-ECR射频反应磁控溅射沉积SiO_2绝缘膜 | 第21页 |
| ·双放电腔MW-ECR射频反应非平衡磁控溅射原理 | 第21-23页 |
| ·磁控溅射靶放电特性 | 第23-24页 |
| ·二氧化硅膜溅射沉积过程及工艺条件 | 第24-26页 |
| ·二氧化硅膜电性能分析 | 第26-27页 |
| ·二氧化硅膜附着力测试 | 第27-29页 |
| ·二氧化硅薄膜膜厚测试 | 第29-30页 |
| ·薄膜热电偶的制作 | 第30-37页 |
| ·热电偶的工作原理 | 第30-31页 |
| ·薄膜热电偶制作的要求 | 第31页 |
| ·薄膜热电偶的制作 | 第31-37页 |
| ·保护层的制作 | 第37-38页 |
| ·传感器的装配 | 第38-40页 |
| ·本章小结 | 第40-41页 |
| 3 嵌入式薄膜热电偶传感器的静动态标定 | 第41-56页 |
| ·薄膜热电偶的静态标定 | 第41-51页 |
| ·薄膜热电偶静态标定注意事项 | 第41页 |
| ·静态标定设备 | 第41-42页 |
| ·石英晶片上的薄膜热电偶的标定 | 第42-44页 |
| ·温度自动标定系统 | 第44页 |
| ·系统各部分介绍 | 第44-48页 |
| ·薄膜热电偶静态标定 | 第48-51页 |
| ·薄膜热电偶的动态标定 | 第51-55页 |
| ·本章小结 | 第55-56页 |
| 4 薄膜热电偶磨损性能研究 | 第56-63页 |
| ·薄膜热电偶性能的理论分析 | 第56-58页 |
| ·薄膜热电偶热电势率 | 第56-57页 |
| ·薄膜热电偶动态特性理论分析 | 第57-58页 |
| ·制作薄膜阵列模拟薄膜磨损过程 | 第58-59页 |
| ·薄膜热电偶磨损对静态精度的影响 | 第59-60页 |
| ·薄膜热电偶磨损对动态响应的影响 | 第60-63页 |
| 5 铝合金切削试验 | 第63-67页 |
| ·试验条件 | 第63页 |
| ·试验结果 | 第63-67页 |
| 结论 | 第67-68页 |
| 参考文献 | 第68-71页 |
| 附录A 附录内容名称 | 第71-72页 |
| 附录B 刀具装配图 | 第72-73页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第73页 |
| 申报专利情况 | 第73-74页 |
| 致谢 | 第74-75页 |