| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-8页 |
| 第一章 引言 | 第8-13页 |
| 一、显微组织的计算及模拟方法 | 第8-11页 |
| (一) 蒙特卡罗方法 | 第9-10页 |
| (二) 元胞自动机法 | 第10页 |
| (三) 分子动力学方法 | 第10页 |
| (四) 相场方法 | 第10-11页 |
| 二、国内微观组织模拟的研究现状 | 第11页 |
| 三、问题的提出及本文研究内容 | 第11-13页 |
| (一) 现有模拟方法存在的主要问题 | 第11-12页 |
| (二) 选题的意义 | 第12页 |
| (三) 本文的研究内容 | 第12-13页 |
| 第二章 相场法 | 第13-19页 |
| 一、相场法的发展过程 | 第13-14页 |
| 二、相场模型的理论分析 | 第14-15页 |
| (一) 郎道的唯象理论(Landau Phenomenological Theory) | 第14-15页 |
| (二) 金兹堡--郎道(Ginzburg-Landau)相变理论 | 第15页 |
| 三、相场模型的理论分析 | 第15-17页 |
| (一) 弥散化的相场模型 | 第15-16页 |
| (二) 局域自由能密度函数的构造 | 第16-17页 |
| (三) 动力学方程的数值模拟 | 第17页 |
| 四、自由能函数的收敛性的研究 | 第17-18页 |
| 五、结论 | 第18-19页 |
| 第三章 二维晶粒的相场模拟 | 第19-28页 |
| 一、仿真过程的初始化 | 第19页 |
| 二、序参量q对晶粒的影响 | 第19-21页 |
| (一) 场变量对晶粒形貌的影响 | 第19-20页 |
| (二) 场变量对晶粒生长规律及晶粒的相对尺寸分布的影响 | 第20-21页 |
| 三、界面能变化对晶粒的影响 | 第21-24页 |
| (一) 晶界能的计算 | 第21-22页 |
| (二) 晶界能对晶粒的影响 | 第22-24页 |
| (三) 晶界能对晶粒平均尺寸的影响 | 第24页 |
| 四、界面迁移率对晶粒的影响 | 第24-26页 |
| 五、结论 | 第26-28页 |
| 第四章 三维晶粒的相场模拟 | 第28-32页 |
| 一、模拟参数的设置 | 第28页 |
| 二、三维晶粒的显微组织及平均晶粒尺寸 | 第28-29页 |
| 三、三维晶粒的尺寸分布形式 | 第29-30页 |
| 四、晶粒的拓扑演变规律 | 第30-31页 |
| 五、结论 | 第31-32页 |
| 结论 | 第32-33页 |
| 参考文献 | 第33-36页 |
| 个人简历及在学期间的研究成果和发表的学术论文 | 第36-37页 |
| 致谢 | 第37-38页 |
| 附录 | 第38-42页 |
