| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 1 绪论 电化学抛光的基本原理和电化学抛光技术的新进展 | 第8-24页 |
| ·电化学抛光的基本原理 | 第8-20页 |
| ·电化学抛光过程 | 第9-14页 |
| ·电化学抛光的两种基本理论 | 第14-15页 |
| ·金属表面粗糙度评价指标 | 第15-17页 |
| ·影响电化学抛光效果的主要因素 | 第17-19页 |
| ·电化学抛光的优点 | 第19-20页 |
| ·电化学抛光技术的新进展 | 第20-22页 |
| ·磁场辅助电化学抛光 | 第20-21页 |
| ·脉冲电化学抛光 | 第21-22页 |
| ·超声电化学抛光 | 第22页 |
| ·本论文研究工作的意义、目的和内容 | 第22-24页 |
| 2 超导材料NiW合金基带电化学抛光工艺研究 | 第24-59页 |
| ·引言 | 第24-25页 |
| ·实验部分 | 第25-27页 |
| ·实验材料和仪器 | 第25页 |
| ·NiW合金在电解液中极化曲线的测量方法 | 第25-26页 |
| ·NiW合金基带表面的电化学抛光 | 第26页 |
| ·NiW合金基带表面电化学抛光结果的表征 | 第26-27页 |
| ·结果与讨论 | 第27-59页 |
| ·NiW合金在不同条件下的极化行为研究 | 第27-31页 |
| ·不同电解液中的极化行为 | 第27-30页 |
| ·不同温度下的极化行为 | 第30-31页 |
| ·电化学抛光工艺的条件优化 | 第31-59页 |
| ·抛光液组成的理论选择 | 第31-32页 |
| ·抛光工艺条件的初步选择 | 第32-35页 |
| ·电化学抛光工艺条件优化 | 第35-59页 |
| 3 结论 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-63页 |
| 致谢 | 第63-64页 |
| 攻读学位期间的研究成果 | 第64页 |