中文摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-9页 |
第一章 前言 | 第9-25页 |
·层状化合物简介 | 第9-16页 |
·概述 | 第9-10页 |
·判断层状化合物的依据 | 第10页 |
·层状化合物的种类 | 第10页 |
·层状化合物的制备方法 | 第10-11页 |
·层状化合物的反应类型 | 第11-13页 |
·层状化合物的改性 | 第13-16页 |
·插层化合物简介 | 第16-25页 |
·概述 | 第16-17页 |
·插层化合物分类 | 第17页 |
·插层作用及插层过程中的热力学 | 第17-19页 |
·插层过程的动力学分析 | 第19页 |
·插层反应机理 | 第19-20页 |
·插层化合物的制备方法 | 第20-22页 |
·插层材料的性质和应用 | 第22-23页 |
·插层化合物化学未来发展趋势 | 第23-25页 |
第二章 有机胺插层钴酸钠的研究 | 第25-35页 |
·引言 | 第25-26页 |
·原料、试剂及仪器设备 | 第26-27页 |
·实验原料及试剂 | 第26页 |
·实验仪器及设备 | 第26-27页 |
·实验方案 | 第27-28页 |
·钴酸钠(Na_(0.7)CoO_2)的制备与酸化 | 第27页 |
·钴酸钠插层化合物的制备 | 第27-28页 |
·结果与讨论 | 第28-34页 |
·母体Na_(0.7)CoO_2化合物的制备 | 第28-30页 |
·母体Na_(0.7)CoO_2化合物及其酸化产物的XRD 结构表征 | 第28-29页 |
·煅烧温度和时间对母体Na_(0.7)CoO_2结晶度的影响 | 第29-30页 |
·正丙胺插层Na_(0.7)CoO_2化合物的研究 | 第30-34页 |
·XRD 表征 | 第30-31页 |
·TG-DTA 分析 | 第31-32页 |
·红外吸收光谱图 | 第32页 |
·Na_(0.7)CoO_2插入正丙胺的结构模型 | 第32-34页 |
·小结 | 第34-35页 |
第三章 有机胺插层钽酸锶铋的研究 | 第35-48页 |
·引言 | 第35-36页 |
·原料、试剂及仪器设备 | 第36-37页 |
·实验原料及试剂 | 第36-37页 |
·实验仪器及设备 | 第37页 |
·实验方案 | 第37-38页 |
·钽酸锶铋(SrBi_2Ta_2O_9)的制备与酸化 | 第37-38页 |
·正丙胺、八胺、十二胺、十八胺、卟啉插层钽酸锶铋化合物的制备. | 第38页 |
·实验结果及讨论 | 第38-47页 |
·钽酸锶铋及其酸化产物的结果与讨论 | 第38-41页 |
·煅烧温度和时间对产物钽酸锶铋的影响 | 第41页 |
·正丙胺、八胺、十二胺、十八胺、卟啉插层钽酸锶铋化合物 | 第41-43页 |
·紫外吸收光谱图 | 第43-44页 |
·红外吸收光谱图 | 第44-47页 |
·小结 | 第47-48页 |
第四章 结论 | 第48-49页 |
参考文献 | 第49-54页 |
攻读硕士期间的科研成果 | 第54-55页 |
致谢 | 第55页 |