| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-10页 |
| 第一章 文献综述 | 第10-57页 |
| ·绪论 | 第10-13页 |
| ·氧化铝概述 | 第13-19页 |
| ·氧化铝的种类 | 第13-17页 |
| ·氧化铝载体的孔结构 | 第17页 |
| ·氧化铝载体在催化剂中的应用 | 第17-19页 |
| ·有序中孔材料概述 | 第19-41页 |
| ·中孔材料的合成机理 | 第20-24页 |
| ·非氧化硅基有序中孔材料的合成方法 | 第24-29页 |
| ·中孔金属氧化物 | 第29-41页 |
| ·氧化铝 | 第29-39页 |
| ·合成 | 第29-34页 |
| ·催化研究 | 第34-38页 |
| ·氧化铝纳米管 | 第38-39页 |
| ·其他中孔金属氧化物 | 第39-41页 |
| ·论文研究思路及安排 | 第41-57页 |
| 第二章 实验总述 | 第57-63页 |
| ·实验原料 | 第57-58页 |
| ·中孔氧化铝的合成和催化剂的制备方法 | 第58-59页 |
| ·中孔氧化铝及催化剂的结构、组成、吸附及光谱性能的表征 | 第59-63页 |
| ·X-射线衍射物相分析 | 第59页 |
| ·扫描电镜(SEM)实验 | 第59页 |
| ·透射电镜(TEM)实验 | 第59页 |
| ·元素分析 | 第59页 |
| ·比表面积和孔分布测定 | 第59-60页 |
| ·热分析 | 第60页 |
| ·红外(IR)光谱表征 | 第60页 |
| ·程序升温还原(TPR) | 第60页 |
| ·H_2的脉冲化学吸附及程序升温脱附 | 第60页 |
| ·1,2-二氯丙烷(DCPA)加氢脱氯反应 | 第60-63页 |
| 第三章 氧化铝纳米管的合成 | 第63-84页 |
| ·绪论 | 第63-64页 |
| ·氧化铝纳米管的合成 | 第64页 |
| ·结果与讨论 | 第64-79页 |
| ·形貌分析 | 第64-67页 |
| ·XRD | 第67-68页 |
| ·模板剂的脱除 | 第68-70页 |
| ·红外光谱表征 | 第70-72页 |
| ·热稳定性表征 | 第72-77页 |
| ·氮气物理吸附-脱附表征 | 第77-79页 |
| ·本章小结 | 第79-84页 |
| 第四章 阴离子模板合成中孔氧化铝的合成规律研究 | 第84-103页 |
| ·绪论 | 第84页 |
| ·阴离子模板合成中孔氧化铝AMA的晶化过程及合成规律的研究 | 第84-100页 |
| ·pH值及碱源的影响 | 第84-88页 |
| ·铝源的影响 | 第88-90页 |
| ·表面活性剂浓度的影响 | 第90-92页 |
| ·晶化温度和晶化时间的影响 | 第92-98页 |
| ·初始混合物配制过程的影响 | 第98-100页 |
| ·本章小结 | 第100-103页 |
| 第五章 中性模板合成中孔氧化铝 | 第103-122页 |
| ·绪论 | 第103-104页 |
| ·NMA中孔氧化铝的合成 | 第104页 |
| ·结果与讨论 | 第104-119页 |
| ·样品的XRD结果 | 第104页 |
| ·合成条件的影响 | 第104-112页 |
| ·模板剂溶解时间的影响 | 第105-108页 |
| ·合成温度的影响 | 第108-110页 |
| ·铝源水解速度的影响 | 第110-111页 |
| ·铝源溶解时间的影响 | 第111-112页 |
| ·样品的热分析 | 第112-114页 |
| ·样品的FTIR振动光谱 | 第114-115页 |
| ·样品的物相结构 | 第115-117页 |
| ·样品的孔结构和比表面测定 | 第117-119页 |
| ·本章小结 | 第119-122页 |
| 第六章 中孔Al_2O_3-NiO的合成 | 第122-130页 |
| ·绪论 | 第122页 |
| ·中孔Al_2O_3-NiO的合成 | 第122-123页 |
| ·结果与讨论 | 第123-128页 |
| ·样品的组成 | 第123-124页 |
| ·样品的物相分析 | 第124-126页 |
| ·N_2物理吸附 | 第126-128页 |
| ·本章小结 | 第128-130页 |
| 第七章 中孔氧化铝及Al_2O_3-NiO的催化性能——加氢脱氯反应 | 第130-150页 |
| ·引言 | 第130-131页 |
| ·催化剂的制备 | 第131-132页 |
| ·催化剂的表征 | 第132-142页 |
| ·催化剂的组成 | 第132-133页 |
| ·催化剂的物相分析 | 第133-134页 |
| ·N_2物理吸附 | 第134-138页 |
| ·催化剂的程序升温还原 | 第138-141页 |
| ·催化剂的H_2程序升温脱附 | 第141页 |
| ·催化剂的H_2的脉冲化学吸附 | 第141-142页 |
| ·催化剂的加氢脱氯反应评价 | 第142-146页 |
| ·不同催化剂的反应性能 | 第142-144页 |
| ·不同反应条件下的结果 | 第144-146页 |
| ·本章小结 | 第146-150页 |
| 第八章 其他中孔金属氧化物合成尝试 | 第150-169页 |
| ·其他金属氧化物的合成、XRD、SEM | 第150-157页 |
| ·氧化铜微米管的合成规律研究 | 第157-165页 |
| ·表面活性剂浓度的影响 | 第157-160页 |
| ·晶化温度的影响 | 第160-164页 |
| ·晶化时间的影响 | 第164-165页 |
| ·形成机理 | 第165-167页 |
| ·本章小结 | 第167-169页 |
| 第九章 结论与展望 | 第169-173页 |
| ·结论 | 第169-171页 |
| ·创新点 | 第171页 |
| ·展望 | 第171-173页 |
| 作者简介及发表文章目录 | 第173-175页 |
| 致谢 | 第175页 |
