| 第一章 绪论 | 第1-30页 |
| ·引言 | 第10-11页 |
| ·磁光效应 | 第11-13页 |
| ·法拉第效应宏观理论 | 第11-13页 |
| ·磁光材料发展概述 | 第13-15页 |
| ·稀土铁石榴石型磁光材料发展及研究现状 | 第15-16页 |
| ·稀土铁石榴石型磁光材料 | 第16-24页 |
| ·石榴石型材料结构与元素替代 | 第16-19页 |
| ·稀土铁石榴石材料的磁学性质 | 第19-20页 |
| ·稀土铁石榴石材料的磁光性质 | 第20-22页 |
| ·稀土铁石榴石材料的制备方法 | 第22-24页 |
| ·稀土铁石榴石材料的应用—磁光器件 | 第24-28页 |
| ·磁光隔离器 | 第24-26页 |
| ·磁光环行器 | 第26页 |
| ·磁光开关 | 第26-27页 |
| ·磁光波导薄膜器件 | 第27页 |
| ·磁光传感器 | 第27-28页 |
| ·磁光记录 | 第28页 |
| ·本课题的提出 | 第28-30页 |
| 第二章 实验过程和实验方法 | 第30-39页 |
| ·晶体生长—助熔剂法 | 第30-34页 |
| ·助熔剂法制备单晶过程 | 第30-31页 |
| ·单晶生长设备简介 | 第31-32页 |
| ·助熔剂的选择 | 第32-33页 |
| ·温度梯度的控制 | 第33-34页 |
| ·加速坩埚旋转技术(ACRT) | 第34页 |
| ·石榴石薄膜生长—液相外延生长 | 第34-36页 |
| ·薄膜制备过程 | 第34-35页 |
| ·外延设备简介 | 第35-36页 |
| ·基片处理 | 第36页 |
| ·物相分析与磁光性能表征 | 第36-39页 |
| ·X射线衍射分析(XRD) | 第36页 |
| ·SEM分析 | 第36页 |
| ·饱和磁化强度测定(VSM) | 第36-37页 |
| ·磁光法拉第旋转测定方法 | 第37页 |
| ·材料磁光性能的确定 | 第37-39页 |
| 第三章 掺铋稀土铁石榴石制备及其法拉第旋转温度和波长特性 | 第39-73页 |
| ·掺铋复合稀土铁石榴石晶体生长及其法拉第旋转温度和波长特性 | 第39-61页 |
| ·近红外波段稀土铁石榴石法拉第旋转温度和波长特性的研究 | 第39-42页 |
| ·生长(TbYbBi)_3Fe_5O_(12)单晶相图考虑 | 第42-43页 |
| ·(TbYbBi)_3Fe_5O_(12)单晶生长与成份和结构分析 | 第43-52页 |
| ·晶体生长过程考虑 | 第52页 |
| ·(TbYbBi)_3Fe_5O_(12)单晶的磁光性能 | 第52-58页 |
| ·(TbYbBi)_3Fe_5O_(12)单晶法拉第旋转谱的理论模型计算与解释 | 第58-61页 |
| ·掺铋稀土铁石榴石薄膜／晶体复合结构制备及其法拉第旋转温度和波长特性 | 第61-73页 |
| ·掺铋稀土铁石榴石薄膜／晶体复合结构改善法拉第温度特性的分析 | 第61-62页 |
| ·生长(TbBi)_3(FeGa)_5O_(12)薄膜的相图考虑 | 第62-63页 |
| ·(TbBi)_3(FeGa)_5O_(12)薄膜生长工艺与成份和结构分析 | 第63-68页 |
| ·(TbBi)_3(FeGa)_5O_(12)薄膜／(TbYbBi)_3Fe_5O_(12)晶体复合结构的磁光性能 | 第68-73页 |
| 第四章 结论 | 第73-75页 |
| 参考文献 | 第75-80页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文及专利情况 | 第80-81页 |
| 致谢 | 第81页 |
