| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-23页 |
| 1． 1 分子印迹技术的基本原理 | 第8-12页 |
| 1． 1． 1 分子印迹聚合物的组成及实现过程 | 第8-9页 |
| 1． 1． 2 分子印迹技术的分类 | 第9-11页 |
| 1． 1． 3 分子印迹技术的热力学和动力学 | 第11页 |
| 1． 1． 4 分子印迹聚合物的表征 | 第11-12页 |
| 1． 2 分子印迹聚合物的制备方法 | 第12-18页 |
| 1． 2． 1 分子印迹聚合物的合成方法 | 第12-15页 |
| 1． 2． 2 基于硅胶表面修饰的分子印迹聚合物的合成及工艺 | 第15-18页 |
| 1． 3 分子印迹技术的应用 | 第18-21页 |
| 1． 3． 1 色谱分离 | 第18-19页 |
| 1． 3． 2 印迹聚合物模拟抗体的药物测定 | 第19页 |
| 1． 3． 3 仿生传感器 | 第19-20页 |
| 1． 3． 4 固相萃取 | 第20页 |
| 1． 3． 5 模拟酶催化 | 第20-21页 |
| 1． 4 本课题的研究思路及目的 | 第21-23页 |
| 第二章 实验部分 | 第23-29页 |
| 2． 1 模板分子及牺牲材料的性质 | 第23页 |
| 2． 2 实验试剂与仪器 | 第23-24页 |
| 2． 2． 1 实验试剂 | 第23-24页 |
| 2． 2． 2 实验仪器 | 第24页 |
| 2． 3 分子印迹聚合物的合成 | 第24-27页 |
| 2． 3． 1 传统聚合法合成分子印迹聚合物 | 第24-26页 |
| 2． 3． 2 牺牲硅胶法合成分子印迹聚合物 | 第26-27页 |
| 2． 4 分子印迹聚合物的性能表征 | 第27-29页 |
| 2． 4． 1 氨基安替比林紫外吸收工作曲线 | 第27页 |
| 2． 4． 2 PT-MIPs的识别特性评价方法 | 第27页 |
| 2． 4． 3 Si-MIPs和Si-NMIPs 对氨基安替比林的吸附等温线 | 第27页 |
| 2． 4． 4 Si-MIPs和Si-NMIPs的Scarchard分析曲线 | 第27-28页 |
| 2． 4． 5 Si-MIPs和Si-NMIPs的吸附动力学曲线 | 第28页 |
| 2． 4． 6 Si-MIPs和Si-NMIPs的选择性实验 | 第28-29页 |
| 第三章 结果与讨论 | 第29-53页 |
| 3． 1 分子印迹体系的选择及其优化 | 第29-33页 |
| 3． 1． 1 模板分子的选择 | 第29页 |
| 3． 1． 2 功能单体的选择 | 第29-30页 |
| 3． 1． 3 交联剂的选择 | 第30-31页 |
| 3． 1． 4 致孔剂的选择及其用量 | 第31-33页 |
| 3． 2 紫外吸收工作曲线的绘制 | 第33-34页 |
| 3． 3 吸附等温线 | 第34-35页 |
| 3． 4 吸附动力学 | 第35-36页 |
| 3． 5 Scatchard分析 | 第36-42页 |
| 3． 5． 1 受体的基本概念和特征 | 第36-37页 |
| 3． 5． 2 Scatchard分析原理 | 第37-38页 |
| 3． 5． 3 Scatchard分析 | 第38-42页 |
| 3． 6 选择性研究 | 第42-43页 |
| 3． 7 制备过程的影响因素 | 第43-53页 |
| 3． 7． 1 复合物的稳定程度 | 第43-44页 |
| 3． 7． 2 聚合过程对吸附性能的影响 | 第44-47页 |
| 3． 7． 3 后处理过程对吸附性能的影响 | 第47-48页 |
| 3． 7． 4 溶解溶胀对聚合物性能的影响 | 第48-50页 |
| 3． 7． 5 溶剂对聚合物吸附性能的影响 | 第50-53页 |
| 结论 | 第53-55页 |
| 参考文献 | 第55-63页 |
| 致谢 | 第63页 |
| 附录 | 第63页 |
