溶胶—凝胶法制备ZnO薄膜
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-21页 |
| ·引言 | 第10-11页 |
| ·ZnO 薄膜的特点 | 第11-12页 |
| ·ZnO 薄膜的研究及应用领域 | 第12-15页 |
| ·ZnO 薄膜的光学性质 | 第12-14页 |
| ·ZnO 薄膜的压电性质 | 第14-15页 |
| ·ZnO 薄膜的气敏性质 | 第15页 |
| ·ZnO 薄膜的压敏性质 | 第15页 |
| ·ZnO 薄膜的制备方法 | 第15-19页 |
| ·真空蒸发镀膜法 | 第15-16页 |
| ·磁控溅射镀膜法 | 第16页 |
| ·射频反应离子镀法 | 第16-17页 |
| ·脉冲激光沉积(PLD) | 第17页 |
| ·化学气相沉积法 | 第17-18页 |
| ·分子束外延 | 第18页 |
| ·喷雾热分解法 | 第18-19页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第19页 |
| ·本研究的目的和意义 | 第19-21页 |
| 第二章 溶胶-凝胶成膜原理与分析原理 | 第21-36页 |
| ·溶胶-凝胶技术的概述 | 第21-22页 |
| ·溶胶-凝胶技术的发展过程 | 第21-22页 |
| ·溶胶-凝胶技术的特点 | 第22页 |
| ·溶胶-凝胶法的工艺过程 | 第22-26页 |
| ·溶胶的制备和溶胶化学 | 第23页 |
| ·凝胶制备及原理 | 第23-25页 |
| ·煅烧和烧结 | 第25-26页 |
| ·溶胶-凝胶法制备薄膜的方法 | 第26-27页 |
| ·浸涂法 | 第26页 |
| ·旋转涂覆法 | 第26-27页 |
| ·喷涂法 | 第27页 |
| ·影响因素 | 第27-29页 |
| ·水解度 | 第27-28页 |
| ·催化剂 | 第28页 |
| ·溶胶浓度 | 第28页 |
| ·成胶温度 | 第28-29页 |
| ·Z nO 薄膜的结构分析 | 第29-31页 |
| ·X 射线衍射(XRD) | 第29-30页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第30页 |
| ·原子力显微镜(AFM) | 第30-31页 |
| ·ZnO 薄膜的电学分析 | 第31-33页 |
| ·ZnO 薄膜的光学分析 | 第33-36页 |
| 第三章 溶胶-凝胶旋涂法制备ZnO 薄膜 | 第36-40页 |
| ·试剂及仪器设备 | 第36-37页 |
| ·试剂 | 第36页 |
| ·实验器材和设备 | 第36-37页 |
| ·薄膜的制备过程 | 第37-40页 |
| ·溶胶溶液的配制 | 第38页 |
| ·基片的清洗 | 第38-39页 |
| ·旋涂法镀膜 | 第39页 |
| ·干燥和热处理 | 第39-40页 |
| 第四章 ZnO 薄膜的实验结果与分析 | 第40-50页 |
| ·工艺参数的优化 | 第40-42页 |
| ·工艺参数的分析 | 第42-50页 |
| ·前处理温度对薄膜性能的影响 | 第43-46页 |
| ·溶胶浓度对薄膜性能的影响 | 第46-48页 |
| ·涂膜层数对薄膜透射光谱的影响 | 第48-50页 |
| 第五章 掺杂ZnO 薄膜的制备和性能分析 | 第50-59页 |
| ·掺Al 的ZnO 薄膜的制备 | 第50页 |
| ·掺Al 的ZnO 薄膜的实验结果分析 | 第50-59页 |
| ·膜层厚度与电阻率的关系 | 第52-53页 |
| ·掺杂浓度对薄膜性能的影响 | 第53页 |
| ·掺杂浓度对薄膜电阻率的影响 | 第53-55页 |
| ·最佳掺杂含量的计算 | 第55-57页 |
| ·掺杂浓度对薄膜透射光谱的影响 | 第57-59页 |
| 结论 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-63页 |
| 致谢 | 第63-64页 |
| 个人简历、在学期间发表的学术论文 | 第64页 |
