仿生合成法制备SiO2膜的研究
| 中文摘要 | 第1-5页 |
| 英文摘要 | 第5-9页 |
| 1 引言 | 第9-21页 |
| ·仿生合成技术 | 第9-16页 |
| ·仿生合成技术简介 | 第9-10页 |
| ·仿生合成法制备无机膜的特点及方法 | 第10-12页 |
| ·模板作用形式及模板的脱除 | 第12-14页 |
| ·国内外研究进展 | 第14-16页 |
| ·仿生合成材料的应用前景 | 第16页 |
| ·纳米结构体系 | 第16-18页 |
| ·纳米结构体系分类 | 第17页 |
| ·纳米材料仿生合成 | 第17-18页 |
| ·仿生合成技术的研究意义 | 第18-19页 |
| ·研究目的和思路创新 | 第19-20页 |
| ·究的主要内容 | 第20-21页 |
| 2 实验部分 | 第21-29页 |
| ·实验试剂及仪器 | 第21-22页 |
| ·SiO2膜的制备 | 第22-24页 |
| ·SiO2膜的制备方法 | 第22-23页 |
| ·模板剂的选择 | 第23页 |
| ·溶液pH范围的选择 | 第23-24页 |
| ·膜表征方法及原理 | 第24-29页 |
| ·热分析 | 第24-25页 |
| ·红外光谱分析 | 第25页 |
| ·X射线衍射分析 | 第25-26页 |
| ·扫描电镜分析 | 第26-27页 |
| ·透射电子显微镜分析 | 第27页 |
| ·粒径分析 | 第27-29页 |
| 3 实验结果及讨论 | 第29-57页 |
| ·成膜的影响因素及正交试验分析 | 第29-33页 |
| ·仅添加模板剂时成膜 | 第29-32页 |
| ·添加模板剂和有机添加剂时成膜 | 第32-33页 |
| ·电场作用对SiO2膜制备的影响 | 第33-35页 |
| ·仅添加模板剂时成膜 | 第33-34页 |
| ·添加模板剂和有机添加剂时成膜 | 第34页 |
| ·电场作用方式的考察 | 第34-35页 |
| ·反应容器表面积对成膜效率的影响 | 第35-37页 |
| ·成膜煅烧温度的确定 | 第37-39页 |
| ·煅烧前后SiO2骨架结构分析 | 第39-41页 |
| ·膜检测及表征 | 第41-51页 |
| ·实验现象及膜微观形貌分析 | 第41-48页 |
| ·透射电镜分析 | 第48-49页 |
| ·平均粒径近似分析 | 第49-51页 |
| ·仿生合成机理探讨 | 第51-57页 |
| ·理论发展 | 第51-54页 |
| ·实验模型探讨 | 第54-57页 |
| 4 结论与展望 | 第57-60页 |
| ·结论 | 第57-58页 |
| ·展望 | 第58-60页 |
| 致 谢 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-65页 |
| 附 录 | 第65-66页 |
