NEA光电阴极光谱响应特性研究
| 中文摘要 | 第1-5页 |
| 英文摘要(ABSTRACT) | 第5-8页 |
| 1 绪论 | 第8-14页 |
| ·光电阴极发展概况 | 第8-9页 |
| ·NEA光电阴极的制备 | 第9-11页 |
| ·NEA光电阴极的应用 | 第11-12页 |
| ·NEA光电阴极国内外研究现状及发展趋势 | 第12-13页 |
| ·本文的工作和意义 | 第13-14页 |
| 2 透射式NEA光电阴极光谱响应特性研究 | 第14-22页 |
| ·光谱响应基本理论 | 第14-15页 |
| ·光谱响应影响因素分析 | 第15-19页 |
| ·光谱响应的测量 | 第19-22页 |
| 3 透射式光电阴极器件模型及其计算机辅助分析 | 第22-35页 |
| ·器件模型化及电路模拟概述 | 第22-23页 |
| ·通用电路模拟软件PSPICE简介 | 第23-24页 |
| ·光电子器件与微电子器件的区别 | 第24页 |
| ·光电子器件电路模型 | 第24-25页 |
| ·透射式光电阴极器件模型及其计算机辅助分析 | 第25-35页 |
| ·电路模型的开发 | 第25-30页 |
| ·PSPICE子电路描述 | 第30-32页 |
| ·模型应用 | 第32-35页 |
| 4 NEA光电阴极光谱响应数据库 | 第35-43页 |
| ·数据库内容 | 第35页 |
| ·数据库软件的编制 | 第35-43页 |
| ·软件开发平台的选取 | 第35-36页 |
| ·软件主要功能介绍 | 第36-43页 |
| 5 NEA光电阴极激活技术和稳定性研究 | 第43-59页 |
| ·阴极稳定性的影响因素 | 第43-45页 |
| ·铯源、氧源的除气工艺研究 | 第45-49页 |
| ·材料的出气特性 | 第46-47页 |
| ·除气原理与真空度要求 | 第47页 |
| ·铯源、氧源除气工艺规范 | 第47-49页 |
| ·GaAs基片净化工艺研究 | 第49-50页 |
| ·激活技术研究 | 第50-52页 |
| ·光照下NEA光电阴极稳定性研究 | 第52-59页 |
| ·NEA光电阴极表面模型 | 第53页 |
| ·固体表面吸附理论 | 第53-55页 |
| ·实验与分析 | 第55-57页 |
| ·解决阴极稳定性问题途径 | 第57-59页 |
| 6 结束语 | 第59-61页 |
| 参考文献 | 第61-65页 |
| 致谢 | 第65页 |
