| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 目录 | 第5-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-18页 |
| ·引言 | 第7-8页 |
| ·电弧离子镀 | 第8-9页 |
| ·TiN类多元、多层薄膜的研究进展 | 第9-11页 |
| ·电弧离子镀存在的问题与解决现状 | 第11-13页 |
| ·论文工作的内容与意义 | 第13-15页 |
| 本章参考文献 | 第15-18页 |
| 第二章 实验设备与实验方法 | 第18-22页 |
| ·实验设备简介 | 第18-19页 |
| ·实验方法 | 第19-22页 |
| ·偏压及偏流波形测试 | 第19页 |
| ·基体温度测量 | 第19-20页 |
| ·薄膜制备 | 第20-21页 |
| ·薄膜结构、性能等测试方法 | 第21-22页 |
| 第三章 脉冲偏压电弧离子镀基体沉积温度的计算 | 第22-38页 |
| ·电弧离子镀的电参数 | 第23-25页 |
| ·脉冲偏压的电参数 | 第23-24页 |
| ·脉冲偏压电参数对沉积温度的影响 | 第24-25页 |
| ·脉冲偏压电弧离子镀中决定基体沉积温度的主要因素 | 第25-27页 |
| ·离子轰击对基体的作用 | 第25-26页 |
| ·基体的热辐射和热传导 | 第26-27页 |
| ·自偏压及具有初始动能的离子对基体的作用 | 第27页 |
| ·基体沉积温度计算模型的建立 | 第27-29页 |
| ·温度计算模型的实验验证 | 第29-31页 |
| ·工艺与结构参数对沉积温度的影响 | 第31-36页 |
| ·脉冲工艺电参数对基体温度的影响 | 第32页 |
| ·基材性能和设备结构对沉积温度的影响 | 第32-36页 |
| ·影响基体升温过程的因素 | 第32-33页 |
| ·影响基体平衡温度的因素 | 第33-35页 |
| ·基材分别为铝、钢、铜时温度的变化 | 第35-36页 |
| ·本章小结 | 第36-37页 |
| 本章参考文献 | 第37-38页 |
| 第四章 电弧离子镀纳米多层硬质薄膜的初步研究 | 第38-52页 |
| ·实验结果与讨论 | 第38-50页 |
| ·直流偏压电弧离子镀中沉积温度对薄膜性能的影响 | 第38-42页 |
| ·实验条件和性能测试结果 | 第38-39页 |
| ·直流偏压下阴极弧电流对基体沉积温度的影响 | 第39页 |
| ·TiN均质膜的结构分析 | 第39-41页 |
| ·TiN均质膜的力学性能分析 | 第41-42页 |
| ·脉冲偏压电弧离子镀制备Ti／TiN纳米多层薄膜的可行性研究 | 第42-47页 |
| ·实验条件和性能测试结果 | 第42-43页 |
| ·Ti／TiN薄膜的多层结构表征 | 第43-46页 |
| ·力学性能分析 | 第46-47页 |
| ·Ti／TiN纳米多层超硬薄膜的制备及硬化机制探讨 | 第47-50页 |
| ·实验条件与性能测试结果 | 第47-48页 |
| ·薄膜的多层结构表征 | 第48页 |
| ·纳米多层薄膜的超硬度效应探讨 | 第48-50页 |
| ·本章小结 | 第50-51页 |
| 本章参考文献 | 第51-52页 |
| 第五章 结论与建议 | 第52-54页 |
| ·结论 | 第52-53页 |
| ·建议 | 第53-54页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第54-55页 |
| 致谢 | 第55-57页 |