含氟无定形碳膜的PECVD制备及结构和性能研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-17页 |
| ·本文的研究目的 | 第9-12页 |
| ·研究的背景和意义 | 第9-11页 |
| ·前景展望 | 第11-12页 |
| ·a-C:F:H薄膜的性质与制备方法综述 | 第12-15页 |
| ·电介质膜或光学薄膜具有的性质 | 第12-13页 |
| ·a-C:F:H薄膜的结构和性质 | 第13-14页 |
| ·a-C:F:H薄膜的制备方法 | 第14-15页 |
| ·本文的研究思路 | 第15-17页 |
| 第二章 实验方法 | 第17-28页 |
| ·PECVD原理及装置 | 第17-23页 |
| ·原理简介 | 第17-18页 |
| ·PECVD沉积介质膜的特点 | 第18-19页 |
| ·本文实验装置介绍 | 第19-23页 |
| ·a-C:F:H薄膜的PECVD制备过程 | 第23-24页 |
| ·a-C:F:H薄膜的测试方法 | 第24-28页 |
| 第三章 a-C:F:H薄膜沉积速率研究 | 第28-35页 |
| ·空间等离子体基团分析 | 第28-29页 |
| ·沉积速率与工艺的关系 | 第29-32页 |
| ·退火温度与膜厚的变化 | 第32-33页 |
| ·本章结论 | 第33-35页 |
| 第四章 a-C:F:H薄膜组分及化学键结构分析 | 第35-47页 |
| ·引言 | 第35页 |
| ·薄膜的Raman分析 | 第35-37页 |
| ·薄膜的XRD分析 | 第37-39页 |
| ·薄膜的FTIR分析 | 第39-43页 |
| ·薄膜的XPS分析 | 第43-45页 |
| ·薄膜结构平面模型 | 第45-46页 |
| ·本章结论 | 第46-47页 |
| 第五章 a-C:F:H薄膜力学、热学性质的研究 | 第47-63页 |
| ·薄膜的表面形貌与工艺关系 | 第47-50页 |
| ·薄膜的粘附性、填隙特性研究 | 第50-51页 |
| ·薄膜的电学性质 | 第51-55页 |
| ·薄膜的介电常数与工艺的关联 | 第52-54页 |
| ·介电常数与热稳定性关联的讨论 | 第54-55页 |
| ·薄膜的光学性质 | 第55-61页 |
| ·薄膜的UV-VIS光谱分析 | 第55-56页 |
| ·薄膜的吸收系数和光学带隙 | 第56-58页 |
| ·影响薄膜光学带隙的因素 | 第58-60页 |
| ·薄膜的折射率与工艺的关系 | 第60-61页 |
| ·薄膜的热稳定性与工艺研究 | 第61-62页 |
| ·本章结论 | 第62-63页 |
| 第六章 总结 | 第63-65页 |
| ·本文完成的主要工作 | 第63页 |
| ·本文结论 | 第63-64页 |
| ·有待进一步研究的问题及研究方向 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-70页 |
| 致谢 | 第70-71页 |
| 攻读学位期间主要的研究成果 | 第71页 |
