模板法制备纳米线阵列及磁性能研究
第一章 文献综述 | 第1-36页 |
·引言 | 第11-12页 |
·纳米材料的分类 | 第12-13页 |
·纳米线的制备方法 | 第13-14页 |
·模板法发展的历史 | 第14-18页 |
·模板合成法 | 第14-15页 |
·模板的种类 | 第15-18页 |
·多孔阳极氧化铝 | 第15-16页 |
·介孔分子筛MCM-41 | 第16页 |
·聚合物模板 | 第16-17页 |
·金属模板 | 第17页 |
·其它模板 | 第17-18页 |
·阳极氧化膜的结构 | 第18-24页 |
·阻挡型氧化膜与多孔型氧化膜 | 第18-19页 |
·多孔膜的构造模型 | 第19-22页 |
·Keller模型 | 第19-20页 |
·Murphy模型 | 第20页 |
·Wood模型 | 第20-21页 |
·Wade模型 | 第21页 |
·自组织的氧化过程 | 第21-22页 |
·多孔阳极氧化铝的形成机制 | 第22-24页 |
·多孔阳极氧化铝为模板电沉积制备纳米材料 | 第24-28页 |
·电沉积制备纳米材料的工艺过程 | 第24-25页 |
·电沉积制备纳米材料的方法 | 第25-27页 |
·直流电沉积 | 第26页 |
·交流电沉积 | 第26-27页 |
·电沉积制备纳米线材料 | 第27-28页 |
·电沉积制备纳米线材料的性能及应用 | 第28-32页 |
·垂直磁记录 | 第29-30页 |
·巨磁电阻效应 | 第30-32页 |
参考文献 | 第32-36页 |
第二章 立题依据和研究内容 | 第36-39页 |
·立题依据 | 第36-37页 |
·研究内容 | 第37-38页 |
参考文献 | 第38-39页 |
第三章 实验方法 | 第39-53页 |
·化学试剂、电极材料与仪器设备 | 第39-40页 |
·化学试剂和电极材料 | 第39-40页 |
·实验仪器 | 第40页 |
·晶粒组织的观察 | 第40-41页 |
·多孔阳极氧化铝模板的制备 | 第41-48页 |
·多孔阳极氧化铝模板制备的工艺流程 | 第41-42页 |
·工作电极的制备 | 第42页 |
·表面预处理 | 第42-44页 |
·除油 | 第42页 |
·酸洗 | 第42-43页 |
·高温退火 | 第43页 |
·碱洗 | 第43页 |
·清洗 | 第43页 |
·电化学抛光 | 第43-44页 |
·阳极氧化 | 第44-47页 |
·铝阳极氧化膜的降压处理 | 第47页 |
·铝阳极氧化膜的扩孔处理 | 第47-48页 |
·阳极氧化膜的剥离 | 第48-49页 |
·物理法 | 第48-49页 |
·化学法 | 第49页 |
·纳米线阵列体系的制备 | 第49-50页 |
·模板及纳米线阵列结构分析与表面测试 | 第50-51页 |
·EPMA测试 | 第50页 |
·XRD测试 | 第50页 |
·AFM测试 | 第50页 |
·EFSEM测试 | 第50-51页 |
·铝阳极氧化膜厚度与孔径、孔隙率的测定 | 第51页 |
·氧化膜厚度的测量 | 第51页 |
·氧化膜孔径与孔隙率的表征 | 第51页 |
·纳米线阵列磁性表征 | 第51-52页 |
参考文献 | 第52-53页 |
第四章 多孔阳极氧化铝模板的表征 | 第53-69页 |
·电化学抛光后铝箔表面形貌观察 | 第54页 |
·不同退火温度下铝箔金相组织观察 | 第54-56页 |
·氧化膜形貌观察 | 第56-62页 |
·AFM分析 | 第56-57页 |
·EFSEM分析 | 第57-62页 |
·氧化膜截面的观察 | 第62页 |
·氧化膜表面元素分析 | 第62-63页 |
·氧化膜的EPMA分析 | 第62-63页 |
·氧化膜的XRD分析 | 第63页 |
·不同电解液模板的孔参数表征 | 第63-64页 |
·氧化膜厚度的测定及影响因素 | 第64-68页 |
·氧化时间对膜厚的影响 | 第64-65页 |
·氧化电压对膜厚的影响 | 第65-66页 |
·氧化温度对膜厚的影响 | 第66-67页 |
·电解液浓度对膜厚的影响 | 第67-68页 |
·本章小结 | 第68页 |
参考文献 | 第68-69页 |
第五章 纳米线阵列的制备及性能表征 | 第69-79页 |
·纳米级微孔内电沉积金属离子的工艺 | 第70-71页 |
·阶梯降压法减薄阻挡层的研究 | 第71-72页 |
·纳米线XRD分析 | 第72页 |
·纳米线EFSEM分析 | 第72-75页 |
·磁性纳米线阵列性能表征 | 第75-78页 |
·铁纳米线阵列 | 第75-76页 |
·钴纳米线阵列 | 第76页 |
·镍纳米线阵列 | 第76-77页 |
·铁钴合金纳米线阵列 | 第77页 |
·钴镍合金纳纳米阵列 | 第77-78页 |
·本章小结 | 第78页 |
参考文献 | 第78-79页 |
第六章 多层纳米线制备与性能测试装置组建 | 第79-84页 |
·多层纳米线制备原理 | 第80-81页 |
·多层纳米线制备装置 | 第81-83页 |
参考文献 | 第83-84页 |
第七章 结论 | 第84-86页 |
致谢 | 第86页 |