| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-24页 |
| ·太阳电池工作原理及发展现状 | 第10-13页 |
| ·太阳电池工作原理 | 第10-11页 |
| ·太阳电池发展现状 | 第11-13页 |
| ·太阳电池的应用 | 第13页 |
| ·CIS/CIGS 薄膜太阳电池及其背接触Mo 薄膜 | 第13-16页 |
| ·CIS/CIGS 薄膜太阳电池 | 第13-15页 |
| ·太阳电池背接触Mo 薄膜 | 第15-16页 |
| ·背接触Mo 薄膜的制备方法 | 第16-23页 |
| ·光化学气相沉积 | 第16页 |
| ·等离子体增强化学气相沉积 | 第16-17页 |
| ·电子束蒸发 | 第17页 |
| ·溅射沉积法(SD) | 第17-23页 |
| ·本论文的研究目的及研究内容 | 第23-24页 |
| 第二章 直流脉冲磁控溅射系统及Mo 薄膜的制备与表征 | 第24-37页 |
| ·引言 | 第24页 |
| ·直流脉冲磁控溅射系统简介 | 第24-29页 |
| ·直流脉冲电源工作原理及特点 | 第24-26页 |
| ·直流脉冲磁控溅射系统及技术特点 | 第26-29页 |
| ·背接触Mo 薄膜的制备 | 第29-31页 |
| ·玻璃衬底的清洗 | 第29-30页 |
| ·Mo 薄膜的制备工艺流程 | 第30-31页 |
| ·背接触Mo 薄膜表征所使用的测试技术 | 第31-36页 |
| ·薄膜厚度及表面粗糙度表征 | 第31-32页 |
| ·薄膜光学性能表征 | 第32-33页 |
| ·薄膜电学性能表征 | 第33-34页 |
| ·X 射线衍射(XRD)分析 | 第34-35页 |
| ·扫描电镜(SEM)分析 | 第35-36页 |
| 本章小结 | 第36-37页 |
| 第三章 工艺参数对Mo 薄膜结构及性能影响的研究 | 第37-61页 |
| ·引言 | 第37页 |
| ·Ar 气压强对Mo 薄膜结构及性能的影响 | 第37-45页 |
| ·实验条件 | 第37-38页 |
| ·Ar 气压强对Mo 薄膜沉积速率的影响 | 第38-39页 |
| ·薄膜结构及应力分析 | 第39-41页 |
| ·Ar 气压强对Mo 薄膜表面粗糙度的影响 | 第41-42页 |
| ·Ar 气压强对薄膜电学性能的影响 | 第42-43页 |
| ·薄膜的紫外-可见光反射光谱 | 第43-45页 |
| ·脉冲功率对Mo 薄膜结构及性能的影响 | 第45-53页 |
| ·实验条件 | 第45-46页 |
| ·沉积速率与脉冲功率的关系 | 第46-47页 |
| ·XRD 分析 | 第47-49页 |
| ·脉冲功率对Mo 薄膜表面粗糙度的影响 | 第49-50页 |
| ·薄膜电学性能分析 | 第50-51页 |
| ·薄膜的紫外-可见光反射光谱 | 第51-53页 |
| ·靶基距对Mo 薄膜结构及性能的影响 | 第53-59页 |
| ·实验条件 | 第53-54页 |
| ·靶基距对薄膜沉积速率的影响 | 第54-55页 |
| ·XRD 分析 | 第55页 |
| ·靶基距对Mo 薄膜表面粗糙度的影响 | 第55-56页 |
| ·薄膜电学性能分析 | 第56-57页 |
| ·薄膜紫外-可见光反射光谱 | 第57-59页 |
| 本章小结 | 第59-61页 |
| 第四章 薄膜厚度对背接触Mo 薄膜结构形貌及光电性能的影响 | 第61-72页 |
| ·引言 | 第61页 |
| ·实验条件 | 第61-62页 |
| ·结果和讨论 | 第62-71页 |
| ·沉积时间对薄膜厚度及沉积速率的影响 | 第62-63页 |
| ·XRD 分析 | 第63-65页 |
| ·薄膜表面形貌分析 | 第65-66页 |
| ·薄膜电学性能分析 | 第66-67页 |
| ·薄膜光学性能分析 | 第67-71页 |
| 本章小结 | 第71-72页 |
| 第五章 结论及未来工作展望 | 第72-74页 |
| 参考文献 | 第74-78页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第78-79页 |
| 致谢 | 第79-80页 |
