| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-8页 |
| 第一章 引言 | 第8-19页 |
| ·场致发射显示器概述 | 第8-10页 |
| ·主流显示器件的比较 | 第8-9页 |
| ·场致发射显示器的研究现状 | 第9-10页 |
| ·场发射理论简介 | 第10-12页 |
| ·电子发射原理 | 第10-11页 |
| ·F—N场发射公式 | 第11-12页 |
| ·场发射阴极结构 | 第12-15页 |
| ·尖锥型场发射阴极 | 第12-13页 |
| ·平面薄膜型场发射阴极 | 第13-14页 |
| ·二极管型场发射阴极 | 第14页 |
| ·三极管型场发射阴极 | 第14-15页 |
| ·场发射阴极材料 | 第15-17页 |
| ·难熔金属和半导体材料 | 第15页 |
| ·碳材料 | 第15-16页 |
| ·多孔硅 | 第16-17页 |
| ·氧化锌 | 第17页 |
| ·论文的主要工作及论文结构 | 第17-19页 |
| 第二章 实验设计的理论依据 | 第19-25页 |
| ·阴极材料的选择 | 第19-21页 |
| ·金刚石的结构特征和主要性质 | 第19-20页 |
| ·金刚石与其它场发射阴极材料的比较 | 第20-21页 |
| ·衬底材料的选择 | 第21页 |
| ·钛基纳米金刚石场发射模型分析 | 第21-25页 |
| ·模型描述 | 第21-22页 |
| ·模型分析 | 第22-25页 |
| 第三章 实验设备简介 | 第25-30页 |
| ·热处理设备 | 第25-27页 |
| ·管式气氛炉 | 第25页 |
| ·HFCVD设备 | 第25-27页 |
| ·场发射测试设备 | 第27-30页 |
| 第四章 电泳法制备纳米金刚石场发射阴极 | 第30-43页 |
| ·电泳原理 | 第30页 |
| ·电泳装置及工艺过程 | 第30-31页 |
| ·电泳液配方的设计 | 第31-32页 |
| ·电泳液方案一： | 第31页 |
| ·电泳液方案二： | 第31-32页 |
| ·电泳液方案三： | 第32页 |
| ·电泳沉积效果 | 第32-42页 |
| ·方案一的电泳结果 | 第32-33页 |
| ·方案二的电泳结果 | 第33-34页 |
| ·方案三的电泳结果 | 第34-41页 |
| 四、发光测试 | 第41-42页 |
| ·总结 | 第42-43页 |
| 第五章 旋涂法制备纳米金刚石场发射阴极 | 第43-62页 |
| ·纳米金刚石分散的理论依据 | 第43-45页 |
| ·纳米粉体产生团聚的原因 | 第43-44页 |
| ·纳米粉体分散稳定理论 | 第44-45页 |
| ·纳米金刚石粉分散实验研究 | 第45-51页 |
| ·实验方案的设计 | 第45-46页 |
| ·分散液的配备 | 第46-47页 |
| ·超声分散法 | 第47-50页 |
| ·搅拌分散法 | 第50-51页 |
| ·旋涂法制备样品的场发射性能分析 | 第51-61页 |
| ·分散液配比(各成分配比)与涂膜次数对样品场发射性能的影响 | 第52-55页 |
| ·分散液配方(各成分配比)与热处理温度对样品场发射性能的综合影响 | 第55-58页 |
| ·热处理温度与涂膜次数(涂层厚度)对样品场发射性能的综合影响 | 第58-60页 |
| ·发光测试 | 第60-61页 |
| ·总结 | 第61-62页 |
| 第六章 总结 | 第62-65页 |
| ·工作总结 | 第62-63页 |
| ·存在的问题以及今后的工作方向 | 第63-65页 |
| 参考文献 | 第65-70页 |
| 在读期间发表的文章 | 第70-71页 |
| 致谢 | 第71页 |
