学位论文数据集 | 第3-4页 |
摘要 | 第4-6页 |
ABSTRACT | 第6-8页 |
符号说明 | 第19-20页 |
第一章 绪论 | 第20-42页 |
1.1 研究背景 | 第20-21页 |
1.2 费托合成钴基催化剂的研究现状 | 第21-32页 |
1.2.1 活性组分的影响 | 第21-22页 |
1.2.2 助剂的影响 | 第22-25页 |
1.2.2.1 氧化物助剂 | 第22-24页 |
1.2.2.1 贵金属助剂 | 第24-25页 |
1.2.3 载体的影响 | 第25-29页 |
1.2.3.1 SiO_2载体 | 第25-26页 |
1.2.3.2 Al_2O_3载体 | 第26-27页 |
1.2.3.3 TiO_2载体 | 第27页 |
1.2.3.4 ZrO_2载体 | 第27页 |
1.2.3.5 碳载体 | 第27-29页 |
1.2.3.6 分子筛载体 | 第29页 |
1.2.3.7 其他载体 | 第29页 |
1.2.4 制备方法的影响 | 第29-32页 |
1.2.4.1 浸渍法 | 第29-30页 |
1.2.4.2 共沉淀法 | 第30-31页 |
1.2.4.3 沉淀沉积法 | 第31页 |
1.2.4.4 溶胶凝胶法 | 第31-32页 |
1.2.4.5 微乳法 | 第32页 |
1.3 高比表面积碳化硅的制备 | 第32-38页 |
1.3.1 高比表面积碳化硅的制备方法与原理 | 第32-38页 |
1.4 高比表面积碳化硅在多相催化中的应用 | 第38-39页 |
1.5 高比表面积碳化硅在费托合成中的应用 | 第39-40页 |
1.6 本课题的研究目的与内容 | 第40-42页 |
1.6.1 本课题的研究目的 | 第40页 |
1.6.2 本课题的研究内容 | 第40-42页 |
第二章 实验部分 | 第42-48页 |
2.1 实验试剂及仪器 | 第42-43页 |
2.2 催化剂的制备 | 第43页 |
2.3 催化剂的表征分析 | 第43-45页 |
2.3.1 BET(N_2-物理吸脱附) | 第43-44页 |
2.3.2 XRD(X-射线衍射) | 第44页 |
2.3.3 XPS(X射线光电子能谱) | 第44页 |
2.3.4 H_2-TPR (H_2程序升温还原) | 第44页 |
2.3.5 H_2-TPD (H_2程序升温脱附) | 第44-45页 |
2.3.6 SEM(扫描电镜) | 第45页 |
2.3.7 TEM(透射电镜) | 第45页 |
2.4 费托合成反应性能评价 | 第45-48页 |
2.4.1 实验装置 | 第45-46页 |
2.4.2 气相烃产物分析 | 第46页 |
2.4.3 油相产物分析 | 第46页 |
2.4.4 催化剂评价指标 | 第46-48页 |
第三章 制备方法对Co/SiC催化费托合成反应的影响 | 第48-60页 |
3.1 引言 | 第48页 |
3.2 实验部分 | 第48-49页 |
3.2.1 IWI、SG和PCT催化剂制备 | 第48页 |
3.2.2 IWI、SG和PCT催化剂表征及其性能评价 | 第48-49页 |
3.3 结果与讨论 | 第49-57页 |
3.3.1 IWI、SG和PCT催化剂物相结构 | 第49页 |
3.3.2 IWI、SG和PCT催化剂织构参数 | 第49-50页 |
3.3.3 IWI、SG和PCT催化剂的形貌(SEM) | 第50-51页 |
3.3.4 IWI、SG和PCT催化剂的形貌(TEM) | 第51页 |
3.3.5 IWI、SG和PCT催化剂的表面化学状态 | 第51-53页 |
3.3.6 IWI、SG和PCT催化剂的还原性质 | 第53-54页 |
3.3.7 IWI、SG和PCT催化剂的H_2-TPD表征 | 第54-55页 |
3.3.8 IWI、SG和PCT催化剂的费托合成反应性能 | 第55-57页 |
3.4 小结 | 第57-60页 |
第四章 SiO_2助剂对Co/SiC催化费托合成反应的影响 | 第60-70页 |
4.1 引言 | 第60页 |
4.2 实验部分 | 第60-61页 |
4.2.1 15%Co/X%SiO_2-SiC催化剂制备 | 第60-61页 |
4.2.2 15%Co/X%SiO_2-SiC催化剂表征及其性能评价 | 第61页 |
4.3 结果与讨论 | 第61-68页 |
4.3.1 15%Co/X%SiO_2-SiC催化剂物相结构 | 第61-62页 |
4.3.2 15%Co/X%SiO_2-SiC催化剂织构参数 | 第62-63页 |
4.3.3 15%Co/X%SiO_-SiC催化剂的形貌 | 第63页 |
4.3.4 15%Co/X%SiO_2-SiC催化剂的表面化学状态 | 第63-65页 |
4.3.5 15%Co/X%SiO_2-SiC催化剂的还原性质 | 第65-66页 |
4.3.6 15%Co/X%SiO_2-SiC催化剂的费托合成反应性能 | 第66-68页 |
4.4 小结 | 第68-70页 |
第五章 La_2O_3助剂对Co/SiC催化费托合成反应的影响 | 第70-80页 |
5.1 引言 | 第70页 |
5.2 实验部分 | 第70-71页 |
5.2.1 15%Co/X%La_2O_3-SiC催化剂制备 | 第70页 |
5.2.2 15%Co/X%La_2O_3-SiC催化剂表征及其性能评价 | 第70-71页 |
5.3 结果与讨论 | 第71-78页 |
5.3.1 15%Co/X%La_2O_3-SiC催化剂物相结构 | 第71页 |
5.3.2 15%Co/X%La_2O_3-SiC催化剂织构参数 | 第71-73页 |
5.3.3 15%Co/X%La_2O_3-SiC催化剂的表面化学状态 | 第73-75页 |
5.3.4 15%Co/X%La_2O_3-SiC催化剂的还原性质 | 第75-76页 |
5.3.5 15%Co/X%La_2O_3-SiC催化剂的费托合成反应性能 | 第76-78页 |
5.4 小结 | 第78-80页 |
第六章 TiO_2助剂对具有蜂窝状孔结构的Co/SiC催化费托合成反应的影响 | 第80-88页 |
6.1 引言 | 第80页 |
6.2 实验部分 | 第80-81页 |
6.2.1 15%Co/X%TiO_2-SiC催化剂制备 | 第80-81页 |
6.2.2 15%Co/X%TiO_2-SiC催化剂表征及其性能评价 | 第81页 |
6.3 结果与讨论 | 第81-87页 |
6.3.1 15%Co/X%TiO_2-SiC催化剂物相结构 | 第81-82页 |
6.3.2 15%Co/X%TiO_2-SiC催化剂的形貌(SEM) | 第82-83页 |
6.3.3 15%Co/X%TiO_2-SiC催化剂的形貌(TEM) | 第83-84页 |
6.3.4 15%Co/X%TiO_2-SiC催化剂的还原性质 | 第84页 |
6.3.5 15%Co/X%TiO_2-SiC催化剂的费托合成反应性能 | 第84-87页 |
6.4 小结 | 第87-88页 |
第七章 总结与展望 | 第88-92页 |
7.1 制备方法对Co/SiC催化费托合成反应的影响 | 第88页 |
7.2 SiO_2助剂对Co/SiC催化费托合成反应的影响 | 第88-89页 |
7.3 La_2O_3助剂对Co/SiC催化费托合成反应的影响 | 第89页 |
7.4 TiO_2助剂对具有蜂窝状孔结构的Co/SiC催化费托合成反应的影响 | 第89页 |
7.5 展望 | 第89-92页 |
参考文献 | 第92-102页 |
致谢 | 第102-104页 |
研究成果及发表论文 | 第104-106页 |
作者与导师简介 | 第106-108页 |
附件 | 第108-110页 |