| 摘要 | 第4-5页 |
| abstract | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第10-23页 |
| 1.1 研究背景 | 第10-11页 |
| 1.2 贵金属催化剂 | 第11-15页 |
| 1.2.1 Pt基催化剂 | 第11-12页 |
| 1.2.2 Au基催化剂 | 第12-14页 |
| 1.2.3 Pd基催化剂 | 第14-15页 |
| 1.3 非贵金属催化剂 | 第15-19页 |
| 1.3.1 Cu基催化剂 | 第15-16页 |
| 1.3.2 Ce基催化剂 | 第16-17页 |
| 1.3.3 Co基催化剂 | 第17-19页 |
| 1.4 CO_3O_4基催化剂 | 第19-21页 |
| 1.4.1 催化剂的制备 | 第19-20页 |
| 1.4.2 水汽对Co_3O_4基催化剂的影响 | 第20-21页 |
| 1.5 本课题的主要研究内容 | 第21-23页 |
| 第2章 实验部分 | 第23-28页 |
| 2.1 实验试剂和仪器 | 第23-25页 |
| 2.1.1 实验试剂 | 第23页 |
| 2.1.2 实验用气体 | 第23-24页 |
| 2.1.3 实验仪器 | 第24-25页 |
| 2.2 催化剂的制备 | 第25页 |
| 2.2.1 M_3Co_(16)O_x催化剂的制备 | 第25页 |
| 2.2.2 Mn_3Co_(16)O_x-free催化剂的制备 | 第25页 |
| 2.2.3 不同前驱体的Mn_3Co_(16)O_x催化剂制备 | 第25页 |
| 2.3 催化剂评价 | 第25-26页 |
| 2.3.1 活性评价 | 第25-26页 |
| 2.3.2 稳定性评价 | 第26页 |
| 2.4 催化剂表征 | 第26-28页 |
| 2.4.1 高分辨率透射电子显微镜(HR-TEM) | 第26页 |
| 2.4.2 热重差热分析(TGA) | 第26页 |
| 2.4.3 X射线晶体衍射(XRD) | 第26页 |
| 2.4.4 氮气低温吸/脱附(BET) | 第26页 |
| 2.4.5 H_2程序升温还原(H_2-TPR) | 第26页 |
| 2.4.6 CO程序升温脱附(CO-TPD) | 第26-27页 |
| 2.4.7 X射线光电子能谱仪(XPS) | 第27页 |
| 2.4.8 傅里叶红外光谱(FT-IR) | 第27页 |
| 2.4.9 O_2程序升温脱附(O_2-TPD) | 第27-28页 |
| 第3章 高分子层涂覆的M_3Co_(16)O_x催化剂 | 第28-39页 |
| 3.1 前言 | 第28页 |
| 3.2 实验结果与讨论 | 第28-30页 |
| 3.2.1 活性评价 | 第28-29页 |
| 3.2.2 稳定性及抗水性评价 | 第29-30页 |
| 3.3 表征结果与讨论 | 第30-38页 |
| 3.3.0 HR-TEM | 第30-32页 |
| 3.3.1 TG | 第32页 |
| 3.3.2 FI-IR | 第32-33页 |
| 3.3.3 XRD | 第33-34页 |
| 3.3.4 低温N_2吸-脱附 | 第34-35页 |
| 3.3.5 H_2-TPR | 第35-36页 |
| 3.3.6 CO-TPD | 第36页 |
| 3.3.7 XPS | 第36-38页 |
| 3.4 本章小结 | 第38-39页 |
| 第4章 不同前驱体的Mn_3Co_(16)O_x催化剂的制备 | 第39-51页 |
| 4.1 前言 | 第39页 |
| 4.2 实验结果与讨论 | 第39-42页 |
| 4.2.1 前驱体对催化活性的影响 | 第39-40页 |
| 4.2.2 锰含量对催化活性的影响 | 第40页 |
| 4.2.3 焙烧温度对催化活性的影响 | 第40-41页 |
| 4.2.4 稳定性评价 | 第41-42页 |
| 4.2.5 倒U型曲线 | 第42页 |
| 4.3 表征结果与讨论 | 第42-49页 |
| 4.3.1 XRD | 第42-44页 |
| 4.3.2 TEM和TG | 第44-45页 |
| 4.3.3 低温N_2吸-脱附 | 第45页 |
| 4.3.4 CO-TPD | 第45-46页 |
| 4.3.5 H_2-TPR | 第46-47页 |
| 4.3.6 XPS | 第47-48页 |
| 4.3.7 O_2-TPD | 第48-49页 |
| 4.4 本章小结 | 第49-51页 |
| 第5章 全文总结 | 第51-53页 |
| 参考文献 | 第53-61页 |
| 致谢 | 第61-62页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文 | 第62页 |
