| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-22页 |
| ·课题研究目的及意义 | 第10-11页 |
| ·钛合金微弧氧化 | 第11-14页 |
| ·钛合金微弧氧化技术的历史及国内外研究现状 | 第12-13页 |
| ·钛合金微弧氧化膜的优异性能 | 第13-14页 |
| ·微弧氧化过程的机理 | 第14-20页 |
| ·微弧氧化的物理化学过程 | 第14-17页 |
| ·微弧氧化的电击穿机理 | 第17-20页 |
| ·影响微弧氧化陶瓷膜的因素 | 第20-21页 |
| ·电解液体系 | 第20页 |
| ·实验电参数 | 第20-21页 |
| ·氧化时间 | 第21页 |
| ·阴极材料 | 第21页 |
| ·温度与搅拌 | 第21页 |
| ·本课题的研究内容 | 第21-22页 |
| 第2章 钛合金微弧氧化膜层的制备 | 第22-30页 |
| ·微弧氧化装置 | 第22-23页 |
| ·微弧氧化膜的制备 | 第23-25页 |
| ·实验材料 | 第23页 |
| ·电解液的配制 | 第23-24页 |
| ·膜层制备工艺流程 | 第24页 |
| ·膜层的厚度测试 | 第24-25页 |
| ·微弧氧化电解液的选择 | 第25-29页 |
| ·Na_2Si0_3-(NaP0_3)_6溶液 | 第25-27页 |
| ·Na_2Si0_3-(NaP0_3)_6- Na_2W0_4溶液 | 第27-28页 |
| ·Na_2Si0_3-(NaP0_3)_6- Na_2Mo0_4溶液 | 第28页 |
| ·Na_2Si0_3-(NaP0_3)_6- NaA10_2溶液 | 第28-29页 |
| ·本章小结 | 第29-30页 |
| 第3章 钛合金微弧氧化陶瓷膜层的微观结构 | 第30-48页 |
| ·Na_2Si0_3-(NaP0_3)_6-NaA10_2溶液中陶瓷膜层微观结构 | 第30-34页 |
| ·膜层表面形貌及成分分析 | 第30-32页 |
| ·微弧氧化膜XRD 相成分分析 | 第32-34页 |
| ·氧化参数对膜层厚度以及微观结构影响 | 第34-46页 |
| ·占空比对氧化膜层的影响 | 第34-37页 |
| ·频率对氧化膜层的影响 | 第37-40页 |
| ·阳极电流密度对陶瓷膜层的影响 | 第40-43页 |
| ·氧化时间对陶瓷膜层的影响 | 第43-46页 |
| ·本章小结 | 第46-48页 |
| 第4章 钛合金微弧氧化膜层摩擦性能研究 | 第48-59页 |
| ·Ti6Al4V 的滑动摩擦性能 | 第48-49页 |
| ·NaAl0_2浓度对膜层滑动摩擦性能的影响 | 第49-52页 |
| ·电流密度对膜层滑动摩擦性能的影响 | 第52-54页 |
| ·氧化时间对膜层滑动摩擦性能的影响 | 第54-56页 |
| ·微弧氧化膜层的磨损性能 | 第56-58页 |
| ·本章小结 | 第58-59页 |
| 第5章 微弧氧化膜层对钛合金电偶腐蚀的影响 | 第59-67页 |
| ·45#钢与TC4 耦合 | 第60-62页 |
| ·对偶后45#钢表面形貌 | 第60页 |
| ·电偶电流的变化 | 第60-62页 |
| ·硬铝与TC4 耦合 | 第62-64页 |
| ·对偶后硬铝表面形貌 | 第62-63页 |
| ·电偶电流的变化 | 第63-64页 |
| ·紫铜与TC4 耦合 | 第64-66页 |
| ·对偶后紫铜表面形貌 | 第64-65页 |
| ·电偶电流的变化 | 第65-66页 |
| ·本章小结 | 第66-67页 |
| 第6章 结论 | 第67-68页 |
| 参考文献 | 第68-73页 |
| 攻读硕士期间发表的论文 | 第73-74页 |
| 致谢 | 第74页 |
