摘要 | 第4-7页 |
abstract | 第7-10页 |
第一章 绪论 | 第14-36页 |
1.1 高压科学概述 | 第14-18页 |
1.2 静高压实验装置和测试手段 | 第18-27页 |
1.2.1 静高压实验装置 | 第18-22页 |
1.2.2 静高压测试手段 | 第22-27页 |
1.3 B-N-H富氢材料简介 | 第27-29页 |
1.4 双氢键简介 | 第29-30页 |
1.5 B-N-H富氢材料的高压研究 | 第30-32页 |
1.6 本文的研究内容及意义 | 第32-36页 |
第二章 富氢材料二硼氢化肼的压致相变研究 | 第36-46页 |
2.1 研究背景 | 第36-37页 |
2.2 实验部分 | 第37-38页 |
2.3 结果与讨论 | 第38-45页 |
2.3.1 原位高压同步辐射X射线衍射 | 第38-41页 |
2.3.2 原位高压拉曼散射 | 第41-44页 |
2.3.3 理论计算结果与分析 | 第44-45页 |
2.4 结论 | 第45-46页 |
第三章 超分子富氢材料硼氢化胍的高压研究 | 第46-58页 |
3.1 研究背景 | 第46-47页 |
3.2 实验部分 | 第47-48页 |
3.3 结果与讨论 | 第48-56页 |
3.3.1 原位高压同步辐射X射线衍射 | 第48-49页 |
3.3.2 原位高压拉曼散射 | 第49-54页 |
3.3.3 计算结果与分析 | 第54-56页 |
3.4 结论 | 第56-58页 |
第四章 二甲胺硼烷中C—H···H—B双氢键的高压研究 | 第58-72页 |
4.1 研究背景 | 第58-59页 |
4.2 实验部分 | 第59-60页 |
4.3 结果与讨论 | 第60-69页 |
4.3.1 拉曼散射结果与分析 | 第60-65页 |
4.3.2 Hirsheld表面能与DMol3计算结果与分析 | 第65-66页 |
4.3.3 红外吸收光谱与同步辐射X射线衍射结果与分析 | 第66-68页 |
4.3.4 第一性原理计算结果与分析 | 第68-69页 |
4.4 结论 | 第69-72页 |
第五章 硼氢化肼的高温高压研究 | 第72-86页 |
5.1 研究背景 | 第72-73页 |
5.2 实验部分 | 第73-75页 |
5.3 结果与讨论 | 第75-84页 |
5.3.1 高压拉曼散射结果与分析 | 第75页 |
5.3.2 同步辐射X射线衍射结果与分析 | 第75-77页 |
5.3.3 高温高压拉曼散射结果与分析 | 第77-80页 |
5.3.4 分解产物能谱分析 | 第80-81页 |
5.3.5 拉曼峰位移动与理论计算 | 第81-84页 |
5.4 结论 | 第84-86页 |
第六章 结论 | 第86-90页 |
参考文献 | 第90-112页 |
作者简介 | 第112-114页 |
攻读博士学位期间发表的文章 | 第114-116页 |
致谢 | 第116-117页 |