摘要 | 第5-6页 |
Abstract | 第6-7页 |
第一章 绪论 | 第12-16页 |
1.1 研究背景与意义 | 第12-13页 |
1.2 研究的目的与内容 | 第13-14页 |
1.3 论文结构与提纲 | 第14-16页 |
第二章 文献综述 | 第16-58页 |
2.1 前言 | 第16页 |
2.2 太阳能电池的工作原理几种晶体硅太阳能电池的介绍 | 第16-23页 |
2.2.1 p-n结 | 第16-20页 |
2.2.2 晶体硅太阳能电池的制备 | 第20-23页 |
2.2.2.1 铝背场(Al-BSF)电池 | 第20-22页 |
2.2.2.2 背表面钝化点接触(PERC)电池 | 第22-23页 |
2.3 晶体硅太阳能电池的光致衰减 | 第23-41页 |
2.3.1 硼氧复合体引起的光致衰减(BO-LID) | 第23-30页 |
2.3.1.1 光致衰减的性质 | 第24-26页 |
2.3.1.2 缺陷的化学组成 | 第26-27页 |
2.3.1.3 缺陷的电学行为 | 第27-28页 |
2.3.1.4 缺陷的动力学行为 | 第28-30页 |
2.3.2 金属铜引起的光致衰减(Cu-LID) | 第30-35页 |
2.3.2.1 金属铜引起光致衰减的发现 | 第30-31页 |
2.3.2.2 金属铜引起光致衰减的机理 | 第31-32页 |
2.3.2.3 金属铜引起光致衰减的影响因素 | 第32-34页 |
2.3.2.4 金属铜引起光致衰减的抑制 | 第34-35页 |
2.3.3 PERC电池的光致衰减 | 第35-41页 |
2.3.3.1 单晶PERC的光致衰减 | 第35-38页 |
2.3.3.2 多晶PERC的光致衰减 | 第38-41页 |
2.4 光致衰减的抑制 | 第41-51页 |
2.4.1 硅材料层面抑制光致衰减 | 第41-43页 |
2.4.1.1 减少硅材料中的硼和氧来抑制光致衰减 | 第41-42页 |
2.4.1.2 共掺抑制光致衰减 | 第42-43页 |
2.4.2 硼氧复合体的第三态回复 | 第43-48页 |
2.4.2.1 第三态的发现和定义 | 第43-45页 |
2.4.2.2 影响第三态转变的因素 | 第45-46页 |
2.4.2.3 第三态回复的机理 | 第46-48页 |
2.4.3 PERC电池光衰减的抑制 | 第48-51页 |
2.4.3.1 单晶PERC光致衰减的抑制 | 第48-49页 |
2.4.3.2 多晶PERC的光致衰减 | 第49-51页 |
2.5 硅的表面态和表面钝化 | 第51-57页 |
2.5.1 表面态和表面复合 | 第51-52页 |
2.5.2 晶体硅表面钝化原理 | 第52-53页 |
2.5.3 晶体硅表面钝化技术 | 第53-57页 |
2.5.3.1 二氧化硅钝化 | 第53-55页 |
2.5.3.2 氮化硅钝化 | 第55-56页 |
2.5.3.3 氧化铝钝化 | 第56-57页 |
2.6 目前存在的问题 | 第57-58页 |
第三章 实验样品和研究方法 | 第58-66页 |
3.1 实验样品制备 | 第58-59页 |
3.1.1 PERC电池的光致衰减研究 | 第58-59页 |
3.1.1.1 单晶PERC | 第58页 |
3.1.1.2 多晶PERC | 第58-59页 |
3.1.2 光照下氧化铝钝化效果研究 | 第59页 |
3.1.3 氢钝化界面态研究 | 第59页 |
3.2 实验设备 | 第59-66页 |
3.2.1 瞬态微波光电导寿命测试仪(MWPCD) | 第59-61页 |
3.2.2 准稳态微波光电导(QSSPC) | 第61-62页 |
3.2.3 深能级瞬态谱仪(DLTS) | 第62-66页 |
第四章 PERC电池光致衰减的探究 | 第66-76页 |
4.1 引言 | 第66-67页 |
4.2 实验 | 第67-68页 |
4.2.1 单晶PERC | 第67-68页 |
4.2.2 多晶PERC | 第68页 |
4.3 实验结果和讨论 | 第68-75页 |
4.3.1 单晶PERC | 第68-72页 |
4.3.1.1 少子寿命探究光致衰减和第三态回复 | 第68-69页 |
4.3.1.2 小电流条件下的衰减和第三态回复 | 第69-70页 |
4.3.1.3 大电流处理 | 第70-71页 |
4.3.1.4 大电流大批量处理 | 第71-72页 |
4.3.2 多晶PERC的光致衰减 | 第72-75页 |
4.4 实验小结 | 第75-76页 |
第五章 氧化铝钝化的光致增强效应 | 第76-84页 |
5.1 前言 | 第76-77页 |
5.2 实验 | 第77页 |
5.3 实验结果与讨论 | 第77-83页 |
5.3.1 氧化铝钝化效果在光照下的增强效应 | 第77-79页 |
5.3.2 氧化铝钝化效果光致增强效应的原因探究 | 第79-82页 |
5.3.3 RTP对氧化铝钝化光致增强效应的影响 | 第82-83页 |
5.4 实验小结 | 第83-84页 |
第六章 氢对Al_2O_3/p-Si界面态的钝化效果研究 | 第84-94页 |
6.1 前言 | 第84-85页 |
6.2 实验 | 第85页 |
6.3 实验结果和讨论 | 第85-92页 |
6.3.1 机理介绍 | 第85-86页 |
6.3.2 界面态电荷的计算 | 第86-87页 |
6.3.3 氢对界面态的钝化 | 第87-90页 |
6.3.4 界面态能级分布和空穴捕获截面 | 第90-92页 |
6.4 实验小结 | 第92-94页 |
第七章 结论 | 第94-96页 |
7.1 实验结论 | 第94-95页 |
7.2 本文创新性 | 第95-96页 |
参考文献 | 第96-110页 |
致谢 | 第110-112页 |
作者简介 | 第112-114页 |
攻读学位期间发表的学术论文 | 第114页 |