| 摘要 | 第6-8页 |
| Abstract | 第8-9页 |
| 第一章 绪论 | 第17-22页 |
| 1.1 NiO的基本特性 | 第17-18页 |
| 1.2 NiO薄膜的研究现状 | 第18-20页 |
| 1.3 研究目的及意义 | 第20-22页 |
| 第二章 NiO薄膜的制备与表征方法 | 第22-28页 |
| 2.1 NiO薄膜的制备方法 | 第22页 |
| 2.2 NiO薄膜的高温热处理 | 第22-23页 |
| 2.3 NiO薄膜的表征 | 第23-28页 |
| 2.3.1 X射线衍射(XRD) | 第23-25页 |
| 2.3.2 原子力显微镜(AFM) | 第25页 |
| 2.3.3 扫描电子显微镜(SEM)和能量色散光谱仪(EDX) | 第25页 |
| 2.3.4 紫外可见近红外(UV-VIS-NIR)分光光度计 | 第25-26页 |
| 2.3.5 四探针电阻测试仪 | 第26-27页 |
| 2.3.6 薄膜测厚仪 | 第27-28页 |
| 第三章 NiO薄膜的制备及特性研究 | 第28-50页 |
| 3.1 NiO薄膜的结构特性 | 第28-39页 |
| 3.1.1 溅射功率对NiO薄膜结构的影响 | 第28-31页 |
| 3.1.2 溅射压强对NiO薄膜结构的影响 | 第31-33页 |
| 3.1.3 氩氧比对NiO薄膜结构的影响 | 第33-35页 |
| 3.1.4 沉积时间对NiO薄膜结构的影响 | 第35-36页 |
| 3.1.5 衬底温度对NiO薄膜结构的影响 | 第36-38页 |
| 3.1.6 退火过程对NiO薄膜结构的影响 | 第38-39页 |
| 3.2 NiO薄膜电学特性 | 第39-42页 |
| 3.3 NiO薄膜的光学特性 | 第42-50页 |
| 3.3.1 溅射功率对NiO薄膜光学特性的影响 | 第42-44页 |
| 3.3.2 溅射压强对NiO薄膜光学特性的影响 | 第44-45页 |
| 3.3.3 氩氧比对NiO薄膜光学特性的影响 | 第45-46页 |
| 3.3.4 沉积时间对NiO薄膜光学特性的影响 | 第46-48页 |
| 3.3.5 衬底温度对NiO薄膜光学特性的影响 | 第48-50页 |
| 第四章 金属掺杂NiO薄膜的制备及其特性研究 | 第50-73页 |
| 4.1 Cu掺杂NiO薄膜的特性研究 | 第51-59页 |
| 4.1.1 Cu掺杂NiO薄膜的结构特性 | 第51-53页 |
| 4.1.2 Cu掺杂NiO薄膜的组成成分 | 第53页 |
| 4.1.3 Cu掺杂NiO薄膜的表面形貌 | 第53-56页 |
| 4.1.4 Cu掺杂NiO薄膜的电学性能 | 第56-57页 |
| 4.1.5 Cu掺杂NiO薄膜的光学性能 | 第57-59页 |
| 4.2 Cu-Mn掺杂NiO薄膜的特性研究 | 第59-66页 |
| 4.2.1 Cu-Mn掺杂NiO薄膜的结构特性 | 第59-60页 |
| 4.2.2 Cu-Mn掺杂NiO薄膜的组成成分 | 第60-61页 |
| 4.2.3 Cu-Mn掺杂NiO薄膜的表面形貌 | 第61-63页 |
| 4.2.4 Cu-Mn掺杂NiO薄膜的电学特性 | 第63-64页 |
| 4.2.5 Cu-Mn掺杂NiO薄膜的光学特性 | 第64-66页 |
| 4.3 Cu-Co掺杂NiO薄膜的特性研究 | 第66-73页 |
| 4.3.1 Cu-Co掺杂NiO薄膜的结构特性 | 第66-67页 |
| 4.3.2 Cu-Co掺杂NiO薄膜的组成成分 | 第67-68页 |
| 4.3.3 Cu-Co掺杂NiO薄膜的表面形貌 | 第68-70页 |
| 4.3.4 Cu-Co掺杂NiO薄膜的电学特性 | 第70-71页 |
| 4.3.5 Cu-Co掺杂NiO薄膜的光学特性 | 第71-73页 |
| 第五章 结论 | 第73-75页 |
| 参考文献 | 第75-85页 |
| 致谢 | 第85-87页 |
| 附录 (攻读硕士学位期间发表论文目录) | 第87页 |