| 中文摘要 | 第3-4页 |
| 英文摘要 | 第4-5页 |
| 1 绪论 | 第9-22页 |
| 1.1 研究背景 | 第9页 |
| 1.2 半导体二氧化钛的结构与光催化性质 | 第9-12页 |
| 1.2.1 二氧化钛结构 | 第9-11页 |
| 1.2.2 二氧化钛光催化原理 | 第11-12页 |
| 1.3 影响二氧化钛光催化活性的因素 | 第12-13页 |
| 1.3.1 二氧化钛的晶型 | 第12页 |
| 1.3.2 二氧化钛颗粒粒径 | 第12-13页 |
| 1.3.3 二氧化钛晶体缺陷 | 第13页 |
| 1.4 二氧化钛光催化应用现状 | 第13-15页 |
| 1.4.1 污水处理 | 第14页 |
| 1.4.2 自清洁材料 | 第14-15页 |
| 1.4.3 空气净化 | 第15页 |
| 1.4.4 灭菌 | 第15页 |
| 1.4.5 其它应用 | 第15页 |
| 1.5 二氧化钛改性 | 第15-19页 |
| 1.5.1 掺杂改性 | 第16-17页 |
| 1.5.2 表面修饰 | 第17-19页 |
| 1.6 二氧化钛分子团簇的研究现状 | 第19-20页 |
| 1.7 本课题的提出与研究内容 | 第20-22页 |
| 1.7.1 本课题的提出 | 第20页 |
| 1.7.2 研究内容 | 第20-22页 |
| 2 实验部分 | 第22-27页 |
| 2.1 实验试剂及仪器设备 | 第22-23页 |
| 2.1.1 实验试剂 | 第22页 |
| 2.1.3 实验设备 | 第22-23页 |
| 2.2 实验方法 | 第23-25页 |
| 2.2.1 二氧化钛分子团簇的合成 | 第23页 |
| 2.2.2 光催化实验步骤 | 第23-25页 |
| 2.3 分析及测试 | 第25-27页 |
| 3 二氧化钛分子团簇合成机理研究 | 第27-43页 |
| 3.1 二氧化钛分子团簇合成机理研究 | 第27-31页 |
| 3.1.1 无酸溶液中二氧化钛分子团簇的形成 | 第27-28页 |
| 3.1.2 酸性溶液中二氧化钛分子团簇的形成 | 第28-29页 |
| 3.1.3 酸的加入顺序对二氧化钛分子团簇合成的影响 | 第29-31页 |
| 3.2 二氧化钛分子团簇的微观结构性质 | 第31-34页 |
| 3.3 二氧化钛分子团簇的光吸收性质 | 第34-35页 |
| 3.4 影响二氧化钛分子团簇合成的因素 | 第35-41页 |
| 3.4.1 酸度对二氧化钛分子团簇合成的影响 | 第35-37页 |
| 3.4.2 胶溶温度对二氧化钛分子团簇合成的影响 | 第37-39页 |
| 3.4.3 反应物的浓度对二氧化钛分子团簇合成的影响 | 第39-40页 |
| 3.4.4 胶溶时间对二氧化钛分子团簇合成的影响 | 第40-41页 |
| 3.5 本章小结 | 第41-43页 |
| 4 二氧化钛分子团簇光催化氧化性能研究 | 第43-55页 |
| 4.1 二氧化钛分子团簇与纳米晶对N719光催化氧化效果比较 | 第45-47页 |
| 4.2 溶胶对N719光催化氧化影响因素研究 | 第47-54页 |
| 4.2.1 胶溶时间对N719光催化氧化的影响 | 第47-49页 |
| 4.2.2 胶溶酸度对N719光催化氧化的影响 | 第49-51页 |
| 4.2.3 胶溶温度对N719光催化氧化的影响 | 第51-52页 |
| 4.2.4 溶胶的浓度对N719光催化氧化的影响 | 第52-54页 |
| 4.3 本章小结 | 第54-55页 |
| 5 二氧化钛分子团簇光催化还原性能研究 | 第55-64页 |
| 5.1 二氧化钛分子团簇与纳米晶对Cr(Ⅵ)光催化还原效果比较 | 第55-56页 |
| 5.2 胶溶时间对Cr(Ⅵ) 光催化还原的影响 | 第56-59页 |
| 5.3 胶溶酸度对Cr(Ⅵ) 光催化还原的影响 | 第59-61页 |
| 5.3.1 溶液的p H对Cr(Ⅵ) 光催化还原的影响 | 第59页 |
| 5.3.2 胶溶酸度对Cr(Ⅵ)光催化还原的影响 | 第59-61页 |
| 5.4 溶胶的浓度对Cr(Ⅵ)光催化还原的影响 | 第61-63页 |
| 5.5 本章小结 | 第63-64页 |
| 6 结论与展望 | 第64-66页 |
| 6.1 结论 | 第64-65页 |
| 6.2 展望 | 第65-66页 |
| 致谢 | 第66-67页 |
| 参考文献 | 第67-72页 |
| 附录 | 第72页 |
