| 摘要 | 第5-7页 |
| ABSTRACT | 第7-9页 |
| 第1章 绪论 | 第13-41页 |
| 1.1 多铁材料简介 | 第13-18页 |
| 1.1.1 材料的多铁性 | 第13-15页 |
| 1.1.2 多铁材料的研究进展 | 第15-17页 |
| 1.1.3 多铁材料的发展趋势 | 第17-18页 |
| 1.2 正电子湮没技术简介 | 第18-31页 |
| 1.2.1 正电子湮没谱学发展史 | 第18-19页 |
| 1.2.2 正电子湮没谱学基本原理 | 第19-24页 |
| 1.2.3 正电子湮没探测技术 | 第24-30页 |
| 1.2.4 正电子探究材料微观结构的独特优势 | 第30-31页 |
| 1.3 正电子寿命理论计算方法简介 | 第31-33页 |
| 1.4 本论文的工作简介 | 第33-35页 |
| 参考文献 | 第35-41页 |
| 第2章 La掺杂BiFeO_3材料的缺陷结构与铁磁性分析 | 第41-73页 |
| 2.1 单相多铁材料BiFeO_3的研究概述 | 第41-46页 |
| 2.1.1 BiFeO_3晶体结构 | 第41-42页 |
| 2.1.2 BiFeO_3的磁性及其研究现状 | 第42-45页 |
| 2.1.3 对La掺杂BiFeO_3的调研 | 第45-46页 |
| 2.2 不同掺杂浓度Bi_(1-x)La_xFeO_3样品的缺陷和磁性研究 | 第46-54页 |
| 2.2.1 实验样品制备 | 第46页 |
| 2.2.2 性能表征 | 第46页 |
| 2.2.3 正电子湮没测量与正电子寿命计算 | 第46-47页 |
| 2.2.4 实验结果与分析 | 第47-54页 |
| 2.3 不同煅烧条件下Bi_(0.7)La_(0.3)FeO_3样品的性能变化 | 第54-62页 |
| 2.3.1 实验样品制备与处理 | 第54-55页 |
| 2.3.2 性能表征 | 第55页 |
| 2.3.3 正电子湮没测量 | 第55页 |
| 2.3.4 实验结果与分析 | 第55-62页 |
| 2.4 Fe空位对Bi_(0.7)La_(0.3)FeO_3样品铁磁性能的影响 | 第62-68页 |
| 2.4.1 实验样品制备与处理 | 第63页 |
| 2.4.2 性能表征 | 第63页 |
| 2.4.3 正电子湮没测量 | 第63-64页 |
| 2.4.4 实验结果与分析 | 第64-68页 |
| 2.5 本章小结 | 第68-70页 |
| 参考文献 | 第70-73页 |
| 第3章 铋层状钙钛矿结构氧化物的正电子谱学研究 | 第73-103页 |
| 3.1 铋层状氧化物简介 | 第73-78页 |
| 3.1.1 铋层状Aurivillius相结构 | 第73-74页 |
| 3.1.2 BFTO材料的发展现状 | 第74-78页 |
| 3.2 Bi7Fe_(2.75)Co_(0.25)Ti_3O_(21)材料的界面缺陷与铁磁性分析 | 第78-88页 |
| 3.2.1 样品制备与退火处理 | 第80页 |
| 3.2.2 性能表征 | 第80-82页 |
| 3.2.3 正电子湮没测试 | 第82页 |
| 3.2.4 样品结构分析 | 第82-85页 |
| 3.2.5 正电子测试结果分析 | 第85-87页 |
| 3.2.6 磁性测试结果分析 | 第87-88页 |
| 3.3 Bi7Fe_(2.9)Co_(0.1)Ti_3O_(21)材料A位铒掺杂的正电子研究 | 第88-97页 |
| 3.3.1 样品制备 | 第90页 |
| 3.3.2 性能表征 | 第90-91页 |
| 3.3.3 正电子湮没测试 | 第91页 |
| 3.3.4 样品结构分析 | 第91-92页 |
| 3.3.5 正电子测试结果分析 | 第92-96页 |
| 3.3.6 磁性测试结果分析 | 第96-97页 |
| 3.4 本章小结 | 第97-99页 |
| 参考文献 | 第99-103页 |
| 第4章 SrTiO_3材料的铁磁性起源机制 | 第103-115页 |
| 4.1 研究背景 | 第103-106页 |
| 4.1.1 SrTiO_3简介 | 第103-104页 |
| 4.1.2 SrTiO_3的磁性研究 | 第104-106页 |
| 4.2 实验部分 | 第106-107页 |
| 4.2.1 实验样品的制备与处理 | 第106页 |
| 4.2.2 性能表征 | 第106页 |
| 4.2.3 正电子湮没测量与正电子寿命计算 | 第106-107页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第107-111页 |
| 4.3.1 样品结构分析 | 第107-109页 |
| 4.3.2 磁性测试分析 | 第109页 |
| 4.3.3 正电子湮没测试分析 | 第109-111页 |
| 4.4 本章小结 | 第111-112页 |
| 参考文献 | 第112-115页 |
| 第五章 总结与展望 | 第115-119页 |
| 5.1 总结 | 第115-116页 |
| 5.2 本文创新点 | 第116-117页 |
| 5.3 展望 | 第117-119页 |
| 致谢 | 第119-121页 |
| 在读期间发表的学术论文 | 第121页 |
