| 摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 第1章 引言 | 第9-45页 |
| 1.1 HCI碰撞产生内壳层过程的X射线辐射机制 | 第9-13页 |
| 1.2 HCI 碰撞产生 X 射线的研究意义 | 第13-21页 |
| 1.3 选题的研究背景 | 第21-43页 |
| 1.4 本文的工作安排 | 第43-45页 |
| 第2章 研究方法 | 第45-63页 |
| 2.1 实验测量装置 | 第46-51页 |
| 2.1.1 离子束的产生与传输 | 第46-48页 |
| 2.1.2 辐射X射线测量 | 第48-51页 |
| 2.1.3 入射离子的计数 | 第51页 |
| 2.2 X 射线发射截面的实验测量 | 第51-54页 |
| 2.2.1 产额测量方法 | 第51-52页 |
| 2.2.2 截面计算方法 | 第52-53页 |
| 2.2.3 误差分析 | 第53-54页 |
| 2.3 X 射线产生截面的理论计算 | 第54-63页 |
| 2.3.1 内壳层直接电离的基本理论 | 第55-58页 |
| 2.3.2 荧光产额的选取 | 第58-63页 |
| 第3章 近玻尔速度HCI多电离态的产生 | 第63-83页 |
| 3.1 炮弹多电离态的产生 | 第63-71页 |
| 3.1.1 Ar_(11+)的电离和中性化过程 | 第63-65页 |
| 3.1.2 Ar离子L壳层多电离态的产生 | 第65-67页 |
| 3.1.3 ArK壳层X射线的产生截面 | 第67-71页 |
| 3.2 初始电荷态对炮弹多电离态的影响 | 第71-75页 |
| 3.2.1 Ar_(q+)KX射线辐射能的移动 | 第72-74页 |
| 3.2.2 K_α与 K_β相对强度比的变化 | 第74-75页 |
| 3.3 靶原子序数对炮弹多电离态的影响 | 第75-81页 |
| 3.3.1 辐射X射线的频移和分支强度比的变化 | 第76-78页 |
| 3.3.2 靶与炮弹离子之间辐射X射线的能损分配 | 第78-81页 |
| 3.4 本章小结 | 第81-83页 |
| 第4章 多电离对炮弹LX射线辐射的影响 | 第83-95页 |
| 4.1 电荷态效应 | 第84-89页 |
| 4.1.1 I离子LX射线的辐射 | 第84-86页 |
| 4.1.2 I离子外壳层的多电离态 | 第86-87页 |
| 4.1.3 多电离对IL分支X射线相对强度比的影响 | 第87-89页 |
| 4.2 靶原子序数效应 | 第89-94页 |
| 4.2.1 Xe离子LX射线的辐射 | 第89-91页 |
| 4.2.2 XeL分支X射线的频移 | 第91-92页 |
| 4.2.3 XeL分支X射线相对强度比随靶原子序数的变化 | 第92-94页 |
| 4.3 本章小结 | 第94-95页 |
| 第5章 近玻尔速度HCI碰撞产生靶原子的多电离 | 第95-105页 |
| 5.1 靶原子多电离对KX射线辐射的影响 | 第95-99页 |
| 5.2 靶原子KX射线的产生截面 | 第99-100页 |
| 5.3 实验截面与理论计算结果的比较 | 第100-104页 |
| 5.4 本章小结 | 第104-105页 |
| 第6章 质子碰撞产生的多电离 | 第105-123页 |
| 6.1 质子碰撞产生多电离现象 | 第105-112页 |
| 6.1.1 Nd L_(γ2) X 射线的辐射增强 | 第106-107页 |
| 6.1.2 质子引起Nd外壳层的多电离 | 第107-109页 |
| 6.1.3 Nd L 壳层分支 X 射线产生截面 | 第109-112页 |
| 6.2 质子碰撞产生多电离的入射能依存关系 | 第112-122页 |
| 6.2.1 Cd In L_γ X 射线的辐射 | 第112-113页 |
| 6.2.2 质子诱导Cd、In原子N、O壳层的多电离 | 第113-115页 |
| 6.2.3 Cd、InL壳层分支X射线产生截面 | 第115-122页 |
| 6.3 本章小结 | 第122-123页 |
| 第7章 总结与展望 | 第123-127页 |
| 7.1 本文的主要结论 | 第123-124页 |
| 7.2 下一步工作计划 | 第124-127页 |
| 参考文献 | 第127-143页 |
| 作者简历 | 第143-145页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文 | 第145-147页 |
| 攻读学位期间参与的基金与会议 | 第147-149页 |
| 致谢 | 第149页 |
