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刮膜蒸发壁面流体流动数值模拟及传热过程研究

摘要第3-4页
abstract第4-5页
第一章 文献综述第9-19页
    1.1 国内外刮膜式分子蒸馏器的概况第9-10页
    1.2 刮膜式分子蒸馏器的基本结构、工作原理和应用情况第10-13页
        1.2.1 基本结构第10-11页
        1.2.2 工作原理第11-12页
        1.2.3 应用范围第12-13页
    1.3 机理研究第13-15页
        1.3.1 理论模型研究第13页
        1.3.2 流体力学研究第13-14页
        1.3.3 传质传热研究第14-15页
    1.4 数值计算的研究发展第15-19页
        1.4.1 概述第15-16页
        1.4.2 CFD 技术在化工领域中的应用第16-17页
        1.4.3 课题分析及其意义第17-19页
第二章 刮膜式分子蒸馏器停留时间分布的数值模拟第19-30页
    2.1 刮膜式分子蒸馏器结构及网格划分第19页
        2.1.1 刮膜式分子蒸馏器的结构第19页
        2.1.2 网格划分第19页
    2.2 模拟物系和工况第19-20页
    2.3 数值模拟方法及边界条件第20页
    2.4 数值模拟结果与分析第20-24页
        2.4.1 进料速率对分子蒸馏停留时间的影响第20-22页
        2.4.2 转子转速对分子蒸馏停留时间的影响第22页
        2.4.3 液膜铺展对分子蒸馏停留时间的影响第22-24页
    2.5 刮膜式分子蒸馏器壁面优化第24-27页
        2.5.1 壁面结构改进第24页
        2.5.2 优化结果与讨论第24-27页
    2.6 拖尾情况分析第27-29页
    2.7 本章小结第29-30页
第三章 刮膜式分子蒸馏器停留时间分布的实验测定第30-42页
    3.1 实验部分第30-31页
        3.1.1 实验设备第30页
        3.1.2 实验方法与步骤第30-31页
    3.2 RTD 曲线的获得第31-33页
        3.2.1 标准曲线的测定第31-32页
        3.2.2 实验数据处理第32-33页
    3.3 实验结果与分析第33-40页
        3.3.1 平均停留时间与方差第33-34页
        3.3.2 进料速率对停留时间的影响第34-35页
        3.3.3 转子转速对停留时间的影响第35-37页
        3.3.4 壁面优化的实验验证第37页
        3.3.5 刮膜式分子蒸馏流动模型的建立第37-40页
    3.4 本章小结第40-42页
第四章 刮膜式分子蒸馏器壁面液膜厚度分布第42-51页
    4.1 液膜厚度研究概述第42页
    4.2 模拟方案与数值方法第42-44页
        4.2.1 物理模型第43页
        4.2.2 数学模型第43-44页
    4.3 网格划分与边界条件第44页
    4.4 模拟结果与分析第44-50页
        4.4.1 圆形刮板第45-46页
        4.4.2 矩形刮板第46-48页
        4.4.3 梯形刮板第48-49页
        4.4.4 对比与验证第49-50页
    4.5 本章小结第50-51页
第五章 刮膜式分子蒸馏器的传热 CFD 模拟第51-63页
    5.1 几何模型第51页
    5.2 数学计算模型第51-53页
        5.2.1 多相流模型第51-52页
        5.2.2 连续性方程和动量方程第52页
        5.2.3 能量方程第52页
        5.2.4 湍流模型第52-53页
        5.2.5 参数定义第53页
    5.3 求解方法第53-54页
    5.4 计算结果与分析第54-61页
        5.4.1 转子对温度变化的影响第54-55页
        5.4.2 对传热系数的影响第55-57页
        5.4.3 对努塞尔数的影响第57-58页
        5.4.4 对温度梯度的影响第58-60页
        5.4.5 液膜厚度对壁面传热的影响第60-61页
        5.4.6 转速对传质的影响第61页
    5.5 本章小结第61-63页
第六章 结论与展望第63-66页
    6.1 结论第63-64页
    6.2 展望第64-66页
参考文献第66-72页
发表论文和参加科研情况说明第72-73页
致谢第73页

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