| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第12-28页 |
| 1.1 环境中的砷污染 | 第12-18页 |
| 1.1.1 砷的存在 | 第12页 |
| 1.1.2 砷的毒性及危害 | 第12-14页 |
| 1.1.3 砷污染的治理研究现状 | 第14-18页 |
| 1.2 铁基材料在含砷废水中的应用 | 第18-20页 |
| 1.2.1 铁（氢）氧化物及其复合材料对砷的去除 | 第18-19页 |
| 1.2.2 零价铁及其复合材料对砷的去除 | 第19-20页 |
| 1.3 石墨烯及其应用研究 | 第20-26页 |
| 1.3.1 石墨烯的结构和性质 | 第21-22页 |
| 1.3.2 石墨烯的制备方法 | 第22-25页 |
| 1.3.3 基于石墨烯的复合材料 | 第25-26页 |
| 1.3.4 石墨烯及其复合材料在水处理当中的应用 | 第26页 |
| 1.4 研究的目的与内容 | 第26-28页 |
| 1.4.1 研究目的 | 第26-27页 |
| 1.4.2 研究内容 | 第27-28页 |
| 第二章 实验部分 | 第28-37页 |
| 2.1 实验试剂和仪器 | 第28-29页 |
| 2.1.1 实验试剂 | 第28-29页 |
| 2.1.2 实验仪器 | 第29页 |
| 2.2 实验分析方法 | 第29-31页 |
| 2.2.1 pH 的测定 | 第29-30页 |
| 2.2.2 砷的测定 | 第30-31页 |
| 2.3 石墨烯、零价纳米铁及其石墨烯复合材料的制备 | 第31-33页 |
| 2.3.1 氧化石墨（GO）的制备方法 | 第31-32页 |
| 2.3.2 石墨烯(RGO)的制备 | 第32页 |
| 2.3.3 零价纳米铁（NZVI）的制备[80, 81] | 第32-33页 |
| 2.3.4 石墨烯负载零价纳米铁（RGO-NZVI）的制备 | 第33页 |
| 2.4 材料表征方法 | 第33-36页 |
| 2.4.1 X 射线衍射分析（XRD） | 第33页 |
| 2.4.2 X 射线光电子能谱（XPS） | 第33-34页 |
| 2.4.3 透射电子显微镜（TEM） | 第34页 |
| 2.4.4 比表面积分析（BET） | 第34页 |
| 2.4.5 Zeta 电位 | 第34-35页 |
| 2.4.6 负载铁含量的测定 | 第35-36页 |
| 2.5 本章小结 | 第36-37页 |
| 第三章 RGO-NZVI 对 As(Ⅲ)和 As(Ⅴ)去除性能的研究 | 第37-60页 |
| 3.1 样品的特性分析 | 第37-43页 |
| 3.1.1 X 射线衍射（XRD）分析结果 | 第37-38页 |
| 3.1.2 X 射线光电子能谱（XPS）分析结果 | 第38-40页 |
| 3.1.3 透射电子显微镜（TEM）分析结果 | 第40-41页 |
| 3.1.4 比表面积（BET）分析结果 | 第41-42页 |
| 3.1.5 Zeta 电位的分析结果 | 第42-43页 |
| 3.1.6 负载铁含量的测定结果 | 第43页 |
| 3.2 石墨烯负载零价纳米铁对 As(Ⅲ)和 As(Ⅴ)的去除 | 第43-49页 |
| 3.2.1 不同初始浓度对 As(Ⅲ)和 As(Ⅴ)去除的影响 | 第43-45页 |
| 3.2.2 吸附时间对 As(Ⅲ)和 As(Ⅴ)去除的影响 | 第45-46页 |
| 3.2.3 溶液初始 pH 对 As(Ⅲ)和 As(Ⅴ)去除的影响 | 第46-48页 |
| 3.2.4 反应温度对 As(Ⅲ)和 As(Ⅴ)去除的影响 | 第48-49页 |
| 3.3 RGO-NZVI 对 As(Ⅲ) AND AS (V)去除性能的分析 | 第49-58页 |
| 3.3.1 吸附等温线分析 | 第49-53页 |
| 3.3.2 吸附动力学分析 | 第53-56页 |
| 3.3.3 RGO-NZVI 去除 As (III) 和 As(Ⅴ)的机理分析 | 第56-58页 |
| 3.4 本章小结 | 第58-60页 |
| 第四章 NZVI 和 RGO 对 As(Ⅲ)和 As(Ⅴ)去除性能的研究 | 第60-75页 |
| 4.1 NZVI 对 As(Ⅲ)和 As(Ⅴ)的去除 | 第60-66页 |
| 4.1.1 吸附时间对 As(Ⅲ)和 As(Ⅴ)去除的影响 | 第60-61页 |
| 4.1.2 溶液初始 pH 对 As(Ⅲ)和 As(Ⅴ)去除的影响 | 第61页 |
| 4.1.3 反应温度对 As(Ⅲ)和 As(Ⅴ)去除的影响 | 第61-62页 |
| 4.1.4 吸附等温线的研究 | 第62-64页 |
| 4.1.5 吸附动力学的研究 | 第64-66页 |
| 4.2 RGO 对 As(Ⅲ)和 As(Ⅴ)的去除 | 第66-72页 |
| 4.2.1 吸附时间对 As(Ⅲ)和 As(Ⅴ)去除的影响 | 第66-67页 |
| 4.2.2 溶液初始 pH 对 As(Ⅲ)和 As(Ⅴ)去除的影响 | 第67页 |
| 4.2.3 反应温度对 As(Ⅲ)和 As(Ⅴ)去除的影响 | 第67-68页 |
| 4.2.4 吸附等温线的研究 | 第68-70页 |
| 4.2.5 吸附动力学的研究 | 第70-72页 |
| 4.3 NZVI、RGO 和 RGO-NZVI 去除 As(Ⅲ) 和 AS (V)的对比 | 第72-73页 |
| 4.3.1 吸附时间的对比 | 第72页 |
| 4.3.2 溶液初始 pH 影响的对比 | 第72页 |
| 4.3.3 反应温度影响的对比 | 第72-73页 |
| 4.3.4 等温吸附线的对比 | 第73页 |
| 4.3.5 吸附动力学的对比 | 第73页 |
| 4.4 本章小结 | 第73-75页 |
| 结论与展望 | 第75-78页 |
| 1 结论 | 第75-76页 |
| 1.1 石墨烯负载零价纳米铁的制备和表征 | 第75页 |
| 1.2 RGO-NZVI 去除水中 AS (Ⅲ) 和 AS (V) | 第75-76页 |
| 2 创新点 | 第76页 |
| 3 展望 | 第76-78页 |
| 参考文献 | 第78-86页 |
| 攻读硕士学位期间发表论文及申请专利目录 | 第86-87页 |
| 致谢 | 第87-88页 |
| 附件 | 第88页 |
