摘要 | 第5-6页 |
ABSTRACT | 第6-7页 |
引言 | 第15-16页 |
第一章 绪论 | 第16-38页 |
1.1 忆阻器简介 | 第16-31页 |
1.1.1 忆阻器的定义 | 第16-17页 |
1.1.2 基于不同物理机制的忆阻器 | 第17-21页 |
1.1.3 基于忆阻器的人工突触仿生应用 | 第21-31页 |
1.2 铁电忆阻器 | 第31-36页 |
1.2.1 铁电材料 | 第31-34页 |
1.2.2 新型电阻型铁电存储器 | 第34-35页 |
1.2.3 铁电忆阻器 | 第35-36页 |
1.3 本文的研究意义和内容 | 第36-38页 |
第二章 实验设备 | 第38-44页 |
2.1 薄膜的制备与表征方法 | 第38-41页 |
2.1.1 脉冲激光沉积技术(PulseLaserDeposition,PLD) | 第38-39页 |
2.1.2 原子力显微镜(AtomicForceMicroscope,AFM) | 第39页 |
2.1.3 X射线衍射(X-RayDiffraction,XRD) | 第39-40页 |
2.1.4 压电力显微镜(PiezoelectricForceMicroscope,PFM) | 第40-41页 |
2.2 器件加工与测试平台 | 第41-43页 |
2.2.1 微加工流程简介 | 第41-42页 |
2.2.2 电学测试平台简介 | 第42-43页 |
2.3 本章小结 | 第43-44页 |
第三章 BaTiO_3/SrRuO_3/SrTiO_3异质结构的制备及器件电学性能测试 | 第44-55页 |
3.1 BaTiO_3/SrRuO_3/SrTiO_3异质结构的制备以及性能表征 | 第44-50页 |
3.1.1 氧气压力(PO2)对BaTiO_3薄膜形貌以及相结构的影响 | 第45-48页 |
3.1.2 衬底温度(TS)对BaTiO_3薄膜形貌以及相结构的影响 | 第48-50页 |
3.1.3 BaTiO_3薄膜铁电性测试 | 第50页 |
3.2 Au/Cr/BaTiO_3/SrRuO_3/SrTiO_3器件的制备以及直流I-V测试 | 第50-54页 |
3.2.1 器件的光刻流程 | 第51-52页 |
3.2.2 器件的蒸镀以及剥离流程 | 第52-53页 |
3.2.3 Au/Cr/BaTiO_3/SrRuO_3/SrTiO_3器件的直流I-V测试 | 第53-54页 |
3.3 本章小结 | 第54-55页 |
第四章 BaTiO_3/SmNiO_3/LaAlO_3异质结构的制备及器件电学性能测试 | 第55-73页 |
4.1 镍酸盐RNiO_3简介 | 第55-56页 |
4.2 SmNiO_3薄膜的制备及性能表征 | 第56-59页 |
4.3 BaTiO_3/SmNiO_3/LaAlO_3异质结构的制备及性能表征 | 第59-61页 |
4.4 Au/Cr/BaTiO_3/SmNiO_3/LaAlO_3器件的阻变特性测试 | 第61-67页 |
4.4.1 Au/Cr/BaTiO_3/SmNiO_3/LaAlO_3器件的直流I-V特性测试 | 第61-62页 |
4.4.2 Au/Cr/BaTiO_3/SmNiO_3/LaAlO_3器件在Pulse电压下的特性测试 | 第62-67页 |
4.5 Au/Cr/BaTiO_3/SmNiO_3/LaAlO_3器件的阻变机理分析 | 第67-72页 |
4.6 本章小结 | 第72-73页 |
第五章 Au/Cr/BaTiO_3/SmNiO_3/LaAlO_3器件的突触性能测试 | 第73-85页 |
5.1 Au/Cr/BaTiO_3/SmNiO_3/LaAlO_3器件的非线性传输特性 | 第73-77页 |
5.2 Au/Cr/BaTiO_3/SmNiO_3/LaAlO_3器件的权重饱和特性 | 第77-78页 |
5.3 Au/Cr/BaTiO_3/SmNiO_3/LaAlO_3器件STDP法则的模拟 | 第78-81页 |
5.4 Au/Cr/BaTiO_3/SmNiO_3/LaAlO_3器件的抗疲劳特性 | 第81-82页 |
5.5 Au/Cr/BaTiO_3/SmNiO_3/LaAlO_3器件的能耗测试 | 第82-84页 |
5.6 本章小结 | 第84-85页 |
第六章 总结与展望 | 第85-87页 |
6.1 总结 | 第85-86页 |
6.2 展望 | 第86-87页 |
参考文献 | 第87-98页 |
攻读硕士学位期间发表的论文 | 第98-99页 |
致谢 | 第99-100页 |