| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第一章 绪论 | 第12-14页 |
| 第二章 文献综述 | 第14-38页 |
| 2.1 硅基光电子学的提出及意义 | 第14-17页 |
| 2.1.1 微电子工业的发展与挑战 | 第14-15页 |
| 2.1.2 硅基光电子学 | 第15-17页 |
| 2.2 硅基光源的研究进展 | 第17-25页 |
| 2.2.1 体硅的光学性质 | 第17-19页 |
| 2.2.2 硅基光源的主要研究方向 | 第19-25页 |
| 2.3 铒掺杂硅基发光体系的研究进展 | 第25-32页 |
| 2.3.1 稀土的光学性质 | 第25-26页 |
| 2.3.2 单晶硅掺铒 | 第26-27页 |
| 2.3.3 富硅氧化硅/氮化硅掺铒 | 第27-32页 |
| 2.4 硅酸铒薄膜发光的研究 | 第32-37页 |
| 2.5 本论文的研究目的及意义 | 第37-38页 |
| 第三章 材料制备与测试设备 | 第38-42页 |
| 3.1 样品的制备方法与设备 | 第38-39页 |
| 3.1.1 衬底硅片的清洗 | 第38页 |
| 3.1.2 电子束蒸发 | 第38页 |
| 3.1.3 热处理设备 | 第38-39页 |
| 3.2 样品的测试设备 | 第39-42页 |
| 3.2.1 卢瑟福背散射 | 第39页 |
| 3.2.2 X射线多晶衍射仪 | 第39页 |
| 3.2.3 傅立叶红外吸收光谱 | 第39-40页 |
| 3.2.4 透射电镜 | 第40页 |
| 3.2.5 光学性能表征 | 第40-42页 |
| 第四章 SROEr薄膜中发光中心对Er~(3+)的敏化作用 | 第42-54页 |
| 4.1 引言 | 第42页 |
| 4.2 实验过程 | 第42-43页 |
| 4.2.1 样品制备 | 第42页 |
| 4.2.2 性能测试 | 第42-43页 |
| 4.3 实验结果与讨论 | 第43-53页 |
| 4.3.1 薄膜成分分析 | 第43-44页 |
| 4.3.2 热处理温度对SROEr薄膜结构及光学性能的影响 | 第44-49页 |
| 4.3.3 发光中心对Er~(3+)的敏化作用研究 | 第49-50页 |
| 4.3.4 变温PL研究和能量传递机制的讨论 | 第50-53页 |
| 4.4 本章小结 | 第53-54页 |
| 第五章 热处理方式对高浓度掺铒SRO薄膜光学性能的影响 | 第54-64页 |
| 5.1 引言 | 第54页 |
| 5.2 实验过程 | 第54-55页 |
| 5.2.1 样品制备 | 第54页 |
| 5.2.2 性能测试 | 第54-55页 |
| 5.3 结果讨论与分析 | 第55-63页 |
| 5.3.1 薄膜成分分析 | 第55页 |
| 5.3.2 快速热处理对薄膜发光的影响 | 第55-59页 |
| 5.3.3 常规热处理对薄膜发光的影响 | 第59-61页 |
| 5.3.4 不同热处理方式影响Er~(3+)光致发光的原因分析 | 第61-63页 |
| 5.4 本章小结 | 第63-64页 |
| 第六章 硅酸铒薄膜的制备及其敏化发光研究 | 第64-76页 |
| 6.1 引言 | 第64页 |
| 6.2 实验过程 | 第64-65页 |
| 6.2.1 样品制备 | 第64-65页 |
| 6.2.2 性能测试 | 第65页 |
| 6.3 实验结果与讨论 | 第65-75页 |
| 6.3.1 薄膜的成分分析 | 第65-66页 |
| 6.3.2 热处理温度对硅酸铒薄膜结构和光学性能的影响 | 第66-71页 |
| 6.3.3 Si薄层的引入对硅酸铒薄膜结构和光学性能的影响 | 第71-75页 |
| 6.4 结论 | 第75-76页 |
| 第七章 全文总结 | 第76-78页 |
| 参考文献 | 第78-86页 |
| 致谢 | 第86-88页 |
| 个人简历 | 第88-90页 |
| 攻读硕士期间发表的学术论文 | 第90页 |
