纳米杂化PI三层复合薄膜各层厚度分配对其介电性能影响
| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第1章 绪论 | 第11-16页 |
| 1.1 课题研究背景 | 第11-12页 |
| 1.2 无机纳米杂化PI薄膜的研究现状 | 第12-13页 |
| 1.3 厚度对材料性能影响的研究现状 | 第13-15页 |
| 1.4 课题研究内容 | 第15-16页 |
| 第2章 无机纳米杂化三层复合PI薄膜的制备 | 第16-22页 |
| 2.1 主要原料及仪器设备 | 第16-17页 |
| 2.1.1 主要原料 | 第16页 |
| 2.1.2 仪器设备 | 第16-17页 |
| 2.2 实验原理 | 第17-19页 |
| 2.2.1 纳米硅/铝氧化物分散液制备 | 第17页 |
| 2.2.2 聚酰亚胺的合成原理 | 第17-19页 |
| 2.3 纳米分散液以及复合PI薄膜的制备 | 第19-21页 |
| 2.3.1 硅/铝氧化物纳米分散液的制备 | 第19页 |
| 2.3.2 纳米杂化PI三层复合薄膜的制备 | 第19-21页 |
| 2.4 本章小结 | 第21-22页 |
| 第3章 纳米分散液及三层复合PI薄膜结构表征 | 第22-28页 |
| 3.1 纳米硅/铝氧化物及其分散液结构表征 | 第22-23页 |
| 3.1.1 硅/铝氧化物粉体XRD图谱 | 第22-23页 |
| 3.1.2 纳米氧化物形貌分析 | 第23页 |
| 3.2 三层复合薄膜结构表征 | 第23-27页 |
| 3.2.1 掺杂PI薄膜FT-IR分析 | 第23-25页 |
| 3.2.2 紫外透光分析 | 第25-26页 |
| 3.2.3 三层复合PI薄膜微观结构形貌分析 | 第26-27页 |
| 3.3 本章小结 | 第27-28页 |
| 第4章 厚度分配对三层复合PI薄膜电导电流的影响 | 第28-33页 |
| 4.1 电导电流测试 | 第28-32页 |
| 4.1.1 测试方法 | 第28-29页 |
| 4.1.2 空间电荷限制电流理论 | 第29-30页 |
| 4.1.3 测试结果及分析 | 第30-32页 |
| 4.2 本章小结 | 第32-33页 |
| 第5章 厚度分配对三层复合PI薄膜介电性能的影响 | 第33-49页 |
| 5.1 表面电阻率和体积电阻率 | 第33-35页 |
| 5.2 介电常数与介电损耗 | 第35-39页 |
| 5.2.1 介电常数 | 第35-37页 |
| 5.2.2 介电损耗 | 第37-39页 |
| 5.3 介电强度 | 第39-48页 |
| 5.3.1 测试方法 | 第39-40页 |
| 5.3.2 固体电介质的击穿原理 | 第40-42页 |
| 5.3.3 复合介质的介电模型建立 | 第42-44页 |
| 5.3.4 测试结果及分析 | 第44-48页 |
| 5.4 本章小结 | 第48-49页 |
| 第6章 厚度分配对三层复合PI薄膜耐电晕性的影响 | 第49-56页 |
| 6.1 耐电晕测试 | 第49-52页 |
| 6.1.1 测试方法 | 第49-50页 |
| 6.1.2 测试结果与分析 | 第50-52页 |
| 6.2 薄膜电晕形貌 | 第52-55页 |
| 6.3 本章小结 | 第55-56页 |
| 结论 | 第56-57页 |
| 参考文献 | 第57-63页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第63-64页 |
| 致谢 | 第64页 |
