| 摘要 | 第6-8页 |
| ABSTRACT | 第8-9页 |
| 第一章 绪论 | 第12-29页 |
| 1.1 高功率固体激光器的发展现状 | 第12-14页 |
| 1.2 倍半氧化物激光增益介质 | 第14-16页 |
| 1.3 镱掺杂氧化钪 | 第16-19页 |
| 1.3.1 掺杂离子——Yb~(3+)的性质 | 第16-18页 |
| 1.3.2 基质材料——Sc_2O_3的性质 | 第18-19页 |
| 1.4 Yb:Sc_2O_3透明陶瓷的研究现状 | 第19-27页 |
| 1.4.1 Yb:Sc_2O_3纳米粉体的合成 | 第20-22页 |
| 1.4.2 Yb:Sc_2O_3透明陶瓷的烧结 | 第22-26页 |
| 1.4.3 Yb:Sc_2O_3透明陶瓷的激光性能研究 | 第26-27页 |
| 1.5 课题的提出及主要研究内容 | 第27-29页 |
| 第二章 实验原料、设备及表征手段 | 第29-33页 |
| 2.1 实验原料 | 第29-30页 |
| 2.2 实验设备 | 第30页 |
| 2.3 测试与表征方法 | 第30-33页 |
| 第三章 共沉淀法结合真空烧结法制备Yb:Sc_2O_3透明陶瓷 | 第33-54页 |
| 3.1 引言 | 第33-34页 |
| 3.2 实验流程 | 第34-36页 |
| 3.2.1 样品制备 | 第34-35页 |
| 3.2.2 样品表征 | 第35-36页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第36-53页 |
| 3.3.1 沉淀剂与金属离子比值的影响 | 第36-42页 |
| 3.3.2 煅烧温度对纳米粉体和陶瓷性能的影响 | 第42-49页 |
| 3.3.3 烧结温度对陶瓷光学质量和微观结构的影响 | 第49-52页 |
| 3.3.4 烧结时间对陶瓷光学质量的影响 | 第52-53页 |
| 3.4 本章小结 | 第53-54页 |
| 第四章 Yb:Sc_2O_3透明陶瓷光谱的性能研究 | 第54-60页 |
| 4.1 引言 | 第54-55页 |
| 4.2 Yb:Sc_2O_3透明陶瓷的光谱性能计算 | 第55-58页 |
| 4.2.1 Yb:Sc_2O_3透明陶瓷的吸收光谱 | 第55页 |
| 4.2.2 Yb:Sc_2O_3透明陶瓷的吸收截面 | 第55-56页 |
| 4.2.3 Yb:Sc_2O_3透明陶瓷的发射截面 | 第56-57页 |
| 4.2.4 Yb:Sc_2O_3透明陶瓷的增益截面 | 第57-58页 |
| 4.2.5 Yb~(3+)离子在Yb:Sc_2O_3透明陶瓷内能级图 | 第58页 |
| 4.3 本章小结 | 第58-60页 |
| 第五章 总结与展望 | 第60-62页 |
| 参考文献 | 第62-69页 |
| 致谢 | 第69-70页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第70页 |
