| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 引言 | 第9-10页 |
| 1 ZnO的性质及研究现状 | 第10-15页 |
| 1．1 ZnO的结构和特性 | 第10-12页 |
| 1．2 ZnO材料的研究现状 | 第12-15页 |
| 2 ZnO薄膜的表征手段和分析方法 | 第15-23页 |
| 2．1 X射线衍射(XRD) | 第15-19页 |
| 2．2 反射式高能电子衍射(RHEED) | 第19-20页 |
| 2．3 扫描电子显微术与原子力显微术 | 第20-21页 |
| 2．4 光致发光谱 | 第21-22页 |
| 2．5 霍尔(Hall)测量 | 第22-23页 |
| 3 热氧化法制备ZnO薄膜的研究 | 第23-31页 |
| 3．1 实验过程 | 第23页 |
| 3．2 数据分析 | 第23-29页 |
| 3．2．1 结构特性 | 第23-25页 |
| 3．2．2 表面形貌 | 第25-26页 |
| 3．2．3 发光特性 | 第26-29页 |
| 3．3 结论 | 第29-31页 |
| 4 脉冲激光沉积法制备ZnO薄膜的研究 | 第31-43页 |
| 4．1 PLD方法制备ZnO薄膜的工艺简介 | 第31-34页 |
| 4．2 直接沉积在Si(111)衬底上的ZnO薄膜的特性 | 第34-38页 |
| 4．2．1 实验过程 | 第34-35页 |
| 4．2．2 结果与分析 | 第35-38页 |
| 4．3 生长在ZnO／Si(111)同质缓冲层上的ZnO薄膜的特性 | 第38-42页 |
| 4．3．1 实验过程 | 第38页 |
| 4．3．2 结果与分析 | 第38-42页 |
| 4．4 结论 | 第42-43页 |
| 总结与展望 | 第43-45页 |
| 参考文献 | 第45-50页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第50-52页 |
| 致谢 | 第52-53页 |
| 大连理工大学学位论文版权使用授权书 | 第53页 |