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SiO2基ITO/LaB6/ITO透明导电薄膜电极的制备及性能研究

摘要第4-5页
Abstract第5页
主要符号表第12-13页
1 绪论第13-25页
    1.1 透明导电薄膜的研究现状第13-19页
        1.1.1 单层透明导电氧化物薄膜第13-15页
        1.1.2 其他种类的单层透明导电薄膜第15-18页
        1.1.3 氧化物-金属-氧化物结构的透明导电薄膜第18-19页
    1.2 ITO、LaB_6复合材料的研究现状第19-20页
    1.3 薄膜的生长机理第20页
    1.4 透明导电薄膜的制备方法第20-22页
        1.4.1 磁控溅射沉积第21页
        1.4.2 真空蒸发沉积第21页
        1.4.3 脉冲激光沉积第21页
        1.4.4 离子束辅助沉积第21页
        1.4.5 溶胶-凝胶第21-22页
        1.4.6 化学气相沉积第22页
    1.5 透明导电薄膜的应用第22-23页
        1.5.1 平板显示器第22页
        1.5.2 太阳能电池第22页
        1.5.3 透明视窗第22-23页
    1.6 透明导电薄膜的热处理第23-24页
    1.7 课题研究的目的及主要研究内容第24-25页
2 技术路线与实验方法第25-33页
    2.1 主要实验原材料及用途第25页
    2.2 薄膜电极的制备方法及设备第25-27页
        2.2.1 薄膜电极的制备方法第25-26页
        2.2.2 磁控溅射设备第26-27页
    2.3 薄膜电极的测试方法及设备第27-31页
        2.3.1 薄膜电极的测试方法第27页
        2.3.2 薄膜电极的测试设备第27-31页
    2.4 技术路线图第31-33页
3 磁控溅射ITO/LaB_6/ITO薄膜电极组织结构研究第33-61页
    3.1 薄膜热处理前后的组织形貌研究第33-48页
        3.1.1 ITO薄膜热处理前后的组织形貌研究第33-36页
        3.1.2 ITO/LaB_6薄膜热处理前后的组织形貌研究第36-42页
        3.1.3 ITO/LaB_6/ITO薄膜热处理前后的组织形貌研究第42-48页
    3.2 薄膜热处理前后的XRD研究第48-52页
        3.2.1 ITO薄膜热处理前后的XRD研究第48-49页
        3.2.2 ITO/LaB_6薄膜热处理前后的XRD研究第49-50页
        3.2.3 ITO/LaB_6/ITO薄膜热处理前后的XRD研究第50-52页
    3.3 薄膜热处理前后的粗糙度研究第52-59页
        3.3.1 ITO薄膜热处理前后的粗糙度研究第52-53页
        3.3.2 ITO/LaB_6薄膜热处理前后的粗糙度研究第53-56页
        3.3.3 ITO/LaB_6/ITO薄膜热处理前后的粗糙度研究第56-59页
    3.4 本章小结第59-61页
4 磁控溅射ITO/LaB_6/ITO薄膜电极光电性能研究第61-71页
    4.1 ITO薄膜热处理前后的的光学电学性能研究第61-62页
        4.1.1 ITO薄膜热处理前后的光学性能研究第61-62页
        4.1.2 ITO薄膜热处理前后的电学性能研究第62页
    4.2 ITO/LaB_6薄膜热处理前后的光学电学性能研究第62-64页
        4.2.1 ITO/LaB_6薄膜热处理前后的光学性能研究第62-64页
        4.2.2 ITO/LaB_6薄膜热处理前后的电学性能研究第64页
    4.3 ITO/LaB_6/ITO薄膜热处理前后的光学电学性能研究第64-68页
        4.3.1 ITO/LaB_6/ITO薄膜热处理前后的光学性能研究第64-66页
        4.3.2 ITO/LaB_6/ITO薄膜热处理前后的电学性能研究第66-68页
    4.4 薄膜热处理前后的光电性能分析第68-70页
        4.4.1 ITO薄膜热处理前后的光电性能分析第68-69页
        4.4.2 ITO/LaB_6薄膜热处理前后的光电性能分析第69页
        4.4.3 ITO/LaB_6/ITO薄膜热处理前后的光电性能分析第69-70页
    4.5 本章小结第70-71页
5 总结第71-72页
参考文献第72-79页
致谢第79-80页
作者简介第80页

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