搪玻璃反应釜内表面喷涂模型及路径规划研究
| 摘要 | 第3-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-17页 |
| 1.1 研究背景及意义 | 第9页 |
| 1.2 国内外喷涂设备的发展现状 | 第9-10页 |
| 1.3 喷涂模型的研究现状 | 第10-12页 |
| 1.3.1 喷涂颗粒的研究 | 第10-11页 |
| 1.3.2 喷涂模型的研究 | 第11-12页 |
| 1.4 喷涂机械臂的轨迹优化算法研究 | 第12-14页 |
| 1.5 文章内容的组织结构 | 第14-16页 |
| 1.6 本章小结 | 第16-17页 |
| 第2章 大颗粒釉料喷涂工艺及建模 | 第17-33页 |
| 2.1 引言 | 第17页 |
| 2.2 搪玻璃反应釜种类调研 | 第17-20页 |
| 2.3 反应釜常见的喷涂工序 | 第20-23页 |
| 2.4 喷涂过程中的不相容问题 | 第23-26页 |
| 2.5 平面喷涂模型确立 | 第26-28页 |
| 2.6 实验验证该模型的准确性 | 第28-31页 |
| 2.7 本章小结 | 第31-33页 |
| 第3章 反应釜内表面喷涂模型 | 第33-45页 |
| 3.1 引言 | 第33页 |
| 3.2 圆柱面、球面涂层积累特点 | 第33-38页 |
| 3.2.1 反应釜内表面函数模型 | 第33页 |
| 3.2.2 喷枪厚度模型 | 第33-35页 |
| 3.2.3 特殊情况分析 | 第35-36页 |
| 3.2.4 圆柱面曲线叠加模型 | 第36-38页 |
| 3.3 球面喷涂厚度累加模型 | 第38-41页 |
| 3.4 球面-圆柱面相贯线模型 | 第41-43页 |
| 3.5 本章小结 | 第43-45页 |
| 第4章 基于最短路算法的喷涂轨迹规划 | 第45-55页 |
| 4.1 引言 | 第45页 |
| 4.2 最短路算法在网络图中的应用 | 第45-46页 |
| 4.3 喷涂轨迹优化及算法 | 第46-49页 |
| 4.4 算例分析 | 第49-54页 |
| 4.5 本章小结 | 第54-55页 |
| 第5章 喷涂实验设计及验证 | 第55-67页 |
| 5.1 引言 | 第55页 |
| 5.2 实验平台的设计加工 | 第55-61页 |
| 5.3 喷涂实验验证分析 | 第61-66页 |
| 5.3.1 实验目的 | 第61-62页 |
| 5.3.2 实验方案 | 第62-66页 |
| 5.4 本章小结 | 第66-67页 |
| 结论与展望 | 第67-69页 |
| 参考文献 | 第69-73页 |
| 致谢 | 第73-75页 |
| 附录 1 | 第75-82页 |
| 附录 2 | 第82页 |
