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GaN纳米线可控掺杂与表面功能化研究

摘要第4-5页
Abstract第5-6页
1 绪论第9-20页
    1.1 概述第9-10页
    1.2 氮化镓半导体材料第10-14页
        1.2.1. 氮化镓物理性质第10-12页
        1.2.2. 氮化镓的应用第12-14页
    1.3 氮化镓纳米结构第14-17页
    1.4 重金属离子检测第17-19页
    1.5 研究内容与目的第19-20页
2 实验材料与实验方法第20-24页
    2.1 实验试剂第20页
    2.2 实验过程第20-21页
    2.3 实验设备第21-22页
    2.4 性能评价手段第22-24页
3 GaN纳米线制备第24-42页
    3.1 在硅衬底上生长纳米线第24-33页
        3.1.1 流量对GaN纳米线的影响第24-26页
        3.1.2 温度对GaN纳米线的影响第26-29页
        3.1.3 衬底位置对GaN纳米线的影响第29-33页
    3.2 石墨衬底上生长GaN纳米线第33-40页
        3.2.1 结构与形貌第34-39页
        3.2.2 发光性能第39-40页
    3.3 本章小结第40-42页
4 掺杂GaN纳米线制备第42-47页
    4.1 实验部分第42页
    4.2 结构与形貌第42-45页
    4.3 元素分布第45-46页
    4.4 本章小结第46-47页
5 GaN表面功能化第47-53页
    5.1 表面润湿性第47-49页
    5.2 重离子检测第49-52页
    5.3 本章小结第52-53页
结论第53-54页
参考文献第54-61页
攻读硕士期间发表论文情况第61-62页
致谢第62-63页

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