| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-21页 |
| ·引言 | 第11-12页 |
| ·陶瓷的晶粒与晶界结构及其性能 | 第12-17页 |
| ·晶粒 | 第12页 |
| ·晶界 | 第12-13页 |
| ·介质极化 | 第13-15页 |
| ·介电常数 | 第15页 |
| ·介电损耗 | 第15-16页 |
| ·磁学性能 | 第16-17页 |
| ·尖晶石型铁氧体的结构及应用 | 第17-20页 |
| ·晶体结构 | 第18-19页 |
| ·磁记录介质 | 第19页 |
| ·磁头材料 | 第19-20页 |
| ·本论文的研究内容 | 第20-21页 |
| 第二章 样品的制备技术与测试分析方法 | 第21-26页 |
| ·射频(RF)磁控溅射技术 | 第21-22页 |
| ·RF溅射原理 | 第21页 |
| ·RF溅射的优缺点 | 第21-22页 |
| ·样品的测试分析方法 | 第22-26页 |
| ·X射线衍射(XRD) | 第22页 |
| ·原子力显微镜(AFM) | 第22-23页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第23页 |
| ·振动样品磁强计(VSM) | 第23-24页 |
| ·阻抗分析仪 | 第24页 |
| ·X射线光电子能谱(XPS) | 第24-26页 |
| 第三章 0.45NiFe_2O_4-0.55BaTiO_3陶瓷的制备及性能研究 | 第26-41页 |
| ·前言 | 第26页 |
| ·实验原材料与仪器设备 | 第26-28页 |
| ·实验原材料 | 第26-27页 |
| ·实验仪器 | 第27-28页 |
| ·样品制备与性能测试 | 第28-29页 |
| ·结果与分析 | 第29-40页 |
| ·小结 | 第40-41页 |
| 第四章 NiFe_2O_4薄膜的制备及其性能研究 | 第41-54页 |
| ·前言 | 第41页 |
| ·实验原材料与仪器设备 | 第41-42页 |
| ·实验原材料 | 第41-42页 |
| ·实验仪器 | 第42页 |
| ·NFO薄膜的制备与性能测试 | 第42-53页 |
| ·靶材的制备 | 第42-43页 |
| ·基底的清洗 | 第43页 |
| ·薄膜的制备 | 第43-45页 |
| ·不同衬底上生长NFO薄膜的结构分析与性能研究 | 第45-50页 |
| ·不同气氛中生长NFO薄膜的结构分析与性能研究 | 第50-53页 |
| ·小结 | 第53-54页 |
| 结论 | 第54-56页 |
| 参考文献 | 第56-61页 |
| 攻读学位期间发表的论文 | 第61-63页 |
| 致谢 | 第63页 |