摘要 | 第5-6页 |
Abstract | 第6-7页 |
1. 绪论 | 第11-23页 |
1.1 课题研究背景 | 第11页 |
1.2 光催化反应机理 | 第11-14页 |
1.3 光催化剂活性的影响因素 | 第14-16页 |
1.3.1 半导体能带结构的影响 | 第14页 |
1.3.2 催化剂晶体结构的影响 | 第14-15页 |
1.3.3 晶粒尺寸的影响 | 第15页 |
1.3.4 环境的影响 | 第15-16页 |
1.4 光催化材料常用表征方法 | 第16-18页 |
1.4.1 X射线衍射分析(XRD) | 第16页 |
1.4.2 扫描电子显微分析(SEM) | 第16页 |
1.4.3 拉曼光谱分析(Raman) | 第16-17页 |
1.4.4 X射线光电子能谱分析(XPS) | 第17页 |
1.4.5 紫外-可见吸收光谱分析(UV-vis Spectroscopy) | 第17-18页 |
1.4.6 光催化性能测试 | 第18页 |
1.5 复合半导体光催化材料的研究 | 第18-20页 |
1.5.1 异质结光催化机理 | 第18-20页 |
1.5.2 复合半导体光催化材料的分类 | 第20页 |
1.6 光催化材料的应用及前景 | 第20-21页 |
1.6.1 太阳能光催化分解水制氢 | 第20页 |
1.6.2 环境净化功能 | 第20-21页 |
1.6.3 光催化合成 | 第21页 |
1.7 课题研究内容 | 第21-23页 |
2. 单斜相BiVO_4的制备及性能研究 | 第23-44页 |
2.1 引言 | 第23-26页 |
2.1.1 BiVO_4概述 | 第23页 |
2.1.2 BiVO_4的晶型结构 | 第23-24页 |
2.1.3 单斜纯相BiVO_4的合成方法 | 第24-26页 |
2.2 单斜相BiVO_4的水热法制备及表征 | 第26-30页 |
2.2.1 实验用化学试剂及仪器 | 第26-27页 |
2.2.2 BiVO_4光催化剂的制备 | 第27-29页 |
2.2.3 BiVO_4的检测与表征 | 第29页 |
2.2.4 BiVO_4光催化性能测试 | 第29-30页 |
2.3 结果与讨论 | 第30-43页 |
2.3.1 反应温度对样品的影响 | 第30-34页 |
2.3.2 反应pH对样品的影响 | 第34-37页 |
2.3.3 表面活性剂对样品的影响 | 第37-40页 |
2.3.4 不同溶剂对样品的影响 | 第40-42页 |
2.3.5 优化制备工艺后样品的禁带宽度表征 | 第42-43页 |
2.4 本章小结 | 第43-44页 |
3. Bi_2WO_6/BiVO_4复合半导体光催化剂的制备及性能研究 | 第44-55页 |
3.1 引言 | 第44-45页 |
3.2 实验部分 | 第45-46页 |
3.2.1 实验试剂及仪器 | 第45页 |
3.2.2 Bi_2WO_6/BiVO_4复合半导体的制备 | 第45-46页 |
3.2.3 Bi_2WO_6/BiVO_4复合半导体的检测与表征 | 第46页 |
3.3 结果与讨论 | 第46-53页 |
3.3.1 XRD分析 | 第46-47页 |
3.3.2 表面形貌分析 | 第47-48页 |
3.3.3 禁带宽度分析 | 第48-50页 |
3.3.4 光催化性能测试 | 第50-52页 |
3.3.5 Bi_2WO_6/BiVO_4复合材料光催化剂可见光降解原理分析 | 第52-53页 |
3.4 本章小结 | 第53-55页 |
4. CdS/BiVO_4复合半导体光催化剂的制备及性能研究 | 第55-62页 |
4.1 引言 | 第55页 |
4.2 实验部分 | 第55-56页 |
4.2.1 实验试剂及仪器 | 第55-56页 |
4.2.2 样品的制备 | 第56页 |
4.2.3 CdS/BiVO4复合半导体的检测与表征 | 第56页 |
4.3 结果与讨论 | 第56-61页 |
4.3.1 XRD分析 | 第56-57页 |
4.3.2 表面形貌分析 | 第57-58页 |
4.3.3 禁带宽度分析 | 第58-59页 |
4.3.4 光催化性能测试 | 第59-60页 |
4.3.5 CdS/BiVO_4复合半导体可见光催化机理分析 | 第60-61页 |
4.4 本章小结 | 第61-62页 |
5. 结论与工作展望 | 第62-64页 |
5.1 文章总结 | 第62-63页 |
5.2 展望 | 第63-64页 |
致谢 | 第64-65页 |
参考文献 | 第65-71页 |
附录 | 第71页 |