| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 1. 绪论 | 第9-22页 |
| 1.1 高温超导材料的发展历史 | 第9-10页 |
| 1.1.1 超导材料的发现 | 第9页 |
| 1.1.2 高温超导材料的研究进展 | 第9-10页 |
| 1.2 第二代涂层超导带材的研究现状 | 第10-13页 |
| 1.2.1 涂层超导带材的特点 | 第10-11页 |
| 1.2.2 涂层材料的制备 | 第11-12页 |
| 1.2.3 涂层超导带材的结构 | 第12-13页 |
| 1.3 涂层导体用基带的研究现状 | 第13-17页 |
| 1.3.1 基于RABiTS技术的涂层导体基带 | 第13页 |
| 1.3.2 单一成分的涂层导体基带 | 第13-15页 |
| 1.3.3 涂层导体复合基带的种类及制备技术 | 第15-16页 |
| 1.3.4 梯度功能材料的研究 | 第16-17页 |
| 1.4 织构的概念及其意义 | 第17-20页 |
| 1.4.1 织构的概念 | 第17-19页 |
| 1.4.2 织构的分析方法 | 第19-20页 |
| 1.5 论文研究目的、意义及研究内容 | 第20-22页 |
| 1.5.1 研究背景 | 第20-21页 |
| 1.5.2 研究内容及意义 | 第21-22页 |
| 2 实验内容及分析手段 | 第22-33页 |
| 2.1 Ni-7.5at.%W合金基带的制备 | 第22-24页 |
| 2.1.1 Ni-7.5at.%W合金坯锭的制备工艺 | 第22-23页 |
| 2.1.2 Ni-7.5at.%W合金坯锭的冷轧工艺 | 第23-24页 |
| 2.1.3 Ni-7.5at.%W合金基带的热处理工艺 | 第24页 |
| 2.2 制备设备和分析仪器 | 第24-33页 |
| 2.2.1 真空感应熔炼及离心铸造系统 | 第24-26页 |
| 2.2.2 精密轧机及管状气氛炉 | 第26-27页 |
| 2.2.3 X射线衍射仪 | 第27-30页 |
| 2.2.4 背散射电子显微镜 | 第30-33页 |
| 3 Ni-7.5at.%W合金基带的制备及分析 | 第33-51页 |
| 3.1 高W含量Ni-W基带的目标 | 第33页 |
| 3.2 真空感应熔炼制备原始坯锭 | 第33-34页 |
| 3.3 Ni-7.5at.%W合金坯锭的冷轧过程及研究 | 第34-40页 |
| 3.3.1 多道次小变形量轧制 | 第34-35页 |
| 3.3.2 不同总变形量下的金相 | 第35-36页 |
| 3.3.3 Ni-7.5at.%W合金基带冷轧织构的研究 | 第36-40页 |
| 3.4 Ni-7.5at.%W合金基带的退火工艺研究 | 第40-51页 |
| 3.4.1 再结晶温度的影响 | 第40-42页 |
| 3.4.2 加工工艺的影响 | 第42-46页 |
| 3.4.3 一步退火与两步退火的影响 | 第46-51页 |
| 4 冷轧工艺对再结晶立方织构的影响 | 第51-58页 |
| 4.1 冷轧-中间回复对Ni-7.5at.%W合金基带立方织构的影响 | 第51-55页 |
| 4.1.1 中间回复对冷轧织构的影响 | 第51-52页 |
| 4.1.2 轧制形变织构对比 | 第52-54页 |
| 4.1.3 再结晶织构对比 | 第54-55页 |
| 4.2 两向压缩工艺对织构的影响 | 第55-58页 |
| 5 两次轧制退火对Ni-7.5at.%W合金基带的影响 | 第58-63页 |
| 5.1 第一次轧制再结晶 | 第58-60页 |
| 5.2 第二次轧制再结晶 | 第60-63页 |
| 5.2.1 第二次冷轧织构 | 第60-61页 |
| 5.2.2 再最终再结晶织构 | 第61-63页 |
| 结论与展望 | 第63-65页 |
| 参考文献 | 第65-69页 |
| 致谢 | 第69-70页 |
