| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-34页 |
| 1.1 电致变色的研究意义 | 第10页 |
| 1.2 电致变色技术发展史 | 第10-11页 |
| 1.3 电致变色材料的分类 | 第11-24页 |
| 1.3.1 无机电致变色材料 | 第12-20页 |
| 1.3.2 有机电致变色材料 | 第20-24页 |
| 1.3.3 复合电致变色材料 | 第24页 |
| 1.4 电致变色材料的变色机理 | 第24-26页 |
| 1.4.1 Deb模型 | 第25页 |
| 1.4.2 Schirmer模型 | 第25页 |
| 1.4.3 Faughnan模型 | 第25-26页 |
| 1.4.4 J.G.Zhang模型 | 第26页 |
| 1.5 电致变色材料的制备方法 | 第26-28页 |
| 1.5.1 溶胶-凝胶法 | 第26-27页 |
| 1.5.2 磁控溅射法 | 第27页 |
| 1.5.3 化学气相沉积法 | 第27页 |
| 1.5.4 电化学沉积法 | 第27页 |
| 1.5.5 水热合成法 | 第27-28页 |
| 1.5.6 化学浴沉积法 | 第28页 |
| 1.6 电致变色器件的设计与应用 | 第28-32页 |
| 1.6.1 通用电致变色器件的设计 | 第28-30页 |
| 1.6.2 电致变色器件制备的困难 | 第30页 |
| 1.6.3 电致变色器件的应用 | 第30-32页 |
| 1.7 本文选题依据及主要研究内容 | 第32-34页 |
| 第二章 实验设备和方法 | 第34-38页 |
| 2.1 化学试剂和实验设备 | 第34-35页 |
| 2.1.1 化学试剂 | 第34页 |
| 2.1.2 实验设备 | 第34-35页 |
| 2.2 材料表征 | 第35-36页 |
| 2.2.1 X射线衍射分析(XRD) | 第35页 |
| 2.2.2 X射线光电子能谱分析(XPS) | 第35页 |
| 2.2.3 电感耦合等离子体原子发射光谱分析(ICP-AES) | 第35页 |
| 2.2.4 扫描和透射电子显微分析(SEM&TEM) | 第35页 |
| 2.2.5 傅里叶转换红外光谱分析(FTIR) | 第35-36页 |
| 2.3 材料电化学性能的测试 | 第36页 |
| 2.4 光谱性能测试 | 第36-38页 |
| 第三章 Co掺杂NiO纳米片阵列薄膜的可控制备及电致变色性能的优化 | 第38-56页 |
| 3.1 引言 | 第38-39页 |
| 3.2 Co掺杂NiO纳米片阵列薄膜的制备 | 第39页 |
| 3.3 Co掺杂NiO纳米片阵列薄膜的结构和形貌 | 第39-44页 |
| 3.4 Co掺杂NiO纳米片阵列薄膜的电致变色性能 | 第44-54页 |
| 3.5 本章小结 | 第54-56页 |
| 第四章 SnO_2@NiO核壳纳米片阵列结构薄膜的制备及其电致变色性能 | 第56-72页 |
| 4.1 引言 | 第56-57页 |
| 4.2 SnO_2@NiO核壳纳米片阵列结构薄膜的制备 | 第57-58页 |
| 4.3 SnO_2@NiO核壳纳米片阵列结构薄膜的结构和形貌 | 第58-62页 |
| 4.4 SnO_2@NiO核壳纳米片阵列结构薄膜的电致变色性能 | 第62-70页 |
| 4.5 本章小结 | 第70-72页 |
| 第五章 结论 | 第72-74页 |
| 参考文献 | 第74-88页 |
| 致谢 | 第88-90页 |
| 个人简历 | 第90-92页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文与取得的其它研究成果 | 第92-93页 |
